판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD #293775059

TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD는 정밀도 및 정확도로 웨이퍼 처리 및 식각 용도로 반도체 산업에 사용되는 고급형 etcher/asher 장비입니다. 이 시스템은 기판에서 재료를 선택적으로 제거하여 복잡한 패턴 (pattern) 과 구조 (structure) 를 만들어 집적회로 제작에 중요한 역할을합니다. TEL UNITY 2E 85 DD에는 최첨단 기술이 적용되어 있어 성능과 효율성이 향상되었습니다. 이 장치 는 건식 "에칭 '공정 에서 작동 하여 습식" 에칭' 방법 에 비하여 보다 정확 하고 제어 할 수 있다. 건식 "에칭 '은 이온화 된" 가스' 를 사용 하여 "웨이퍼 '표면 을 폭격 하고, 화학 혹은 물리적 과정 을 통해 물질 을 제거 하는 것 과 관련 이 있다. 도쿄 전자 UNITY 2E 85 DD (TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD) 의 주요 구성 요소 중 하나는 프로세스 챔버로, 웨이퍼가 배치되고 에칭 과정이 적용됩니다. 이 챔버 (Chamber) 는 최적의 에칭 결과를 얻기 위해 특정 가스 흐름 속도, 압력 수준, 온도 조건으로 통제 된 환경을 유지하도록 설계되었습니다. 이 기계는 고급 플라즈마 (plasma) 기술을 사용하여 웨이퍼 표면에서 재료를 효과적으로 제거하는 고밀도 플라즈마를 생성합니다. UNITY 2E 85 DD에는 여러 개의 가스 입구 및 RF 소스가 장착되어 있으므로 이온 밀도, 에너지, 분배와 같은 플라즈마 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 제어 수준 (level of control) 을 사용하면 공구가 에칭에서 높은 선택성과 균일성을 얻을 수 있으므로 원하는 패턴이 웨이퍼에 정확하게 전달됩니다. 또한 TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD는 에칭 프로세스를 실시간으로 모니터링하는 고급 엔드 포인트 감지 자산을 갖추고 있습니다. 이 모델은 광학 방출 분광법 (optical emission spectroscopy) 또는 기타 기술을 사용하여 에칭 프로세스가 완료되는 순간을 감지하고, 오버에칭을 방지하고, 에칭 피쳐의 일관성을 보장합니다. TEL UNITY 2E 85 DD는 정확성과 제어 기능 외에도 생산성과 안정성을 염두에 두고 설계되었습니다. 이 장비는 처리량 (Throughput Capacity) 이 높아 짧은 시간 안에 많은 수의 웨이퍼 (Wafer) 를 처리할 수 있습니다. 또한 자동화된 웨이퍼 처리 시스템 (Wafer Handling System) 과 소프트웨어 제어를 통합하여 원활한 운영 및 다운타임을 최소화합니다. TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD는 광범위한 에칭 및 애싱 응용 프로그램을 위해 구성 할 수있는 다용도 시스템입니다. 패턴 전송 (pattern transfer), 트렌치 에칭 (trench etching) 또는 잔류 (residue) 제거에 사용되든, 이 장치는 다양한 반도체 프로세스의 특정 요구 사항을 충족하는 유연성 및 사용자 정의 옵션을 제공합니다. 전반적으로 UNITY 2E 85 DD는 반도체 산업의 첨단 제조 요구를 지원하기 위해 정밀, 제어, 생산성 및 신뢰성을 결합한 최첨단 etcher/asher 기계입니다. 첨단 기술과 혁신적인 기능을 갖춘 이 툴은 최첨단 반도체 (CE) 장치 생산에 중요한 역할을 하며, 탁월한 성능과 기능을 제공합니다.