판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD #293775058

TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD는 반도체 제조 산업에 사용되는 고도의 etcher/asher 장비입니다. 이 시스템은 최첨단 기술과 정밀 엔지니어링을 결합하여 탁월한 성능과 안정성을 제공합니다. TEL UNITY 2E 85 DD는 최신 반도체 제작 프로세스의 까다로운 요구 사항을 충족시켜 높은 프로세스 안정성, 프로세스 유연성, 탁월한 프로세스 반복성을 제공합니다. 주요 특징: TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD는 독특한 이중 주파수 정전 결합 플라즈마 (CCP) 소스를 특징으로하여 플라즈마 밀도와 이온 에너지 분포를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 결과적으로 전체 기판 표면에서 매우 균일 한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 을 수행하여 높은 공정 수율 및 장치 성능을 보장합니다. 이 장치에는 고급 엔드포인트 감지 (endpoint detection) 기능이 장착되어 있어 에칭/어싱 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이렇게 하면 프로세스 매개변수를 정확하게 제어할 수 있고, 오버캐치를 최소화하여 공정 효율을 높이고, 재료 폐기물을 줄일 수 있습니다. UNITY 2E 85 DD는 실리콘, 화합물 반도체, 유리 기판 등 다양한 기판을 처리 할 수 있습니다. 이 기계는 저항제 (Resist Striping) 및 강하 (Descum) 프로세스에 대한 옵션을 제공하여 반도체 산업의 다양한 응용 분야에 적합합니다. 이 도구의 고급 프로세스 챔버 (process chamber) 설계 및 가스 전달 자산은 뛰어난 프로세스 반복성과 균일성을 보장합니다. 이 방은 입자 오염을 최소화하고, 깨끗한 처리 환경을 보장하여, 높은 장치 생산량, 향상된 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다. TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD는 사용자 친화적 인 인터페이스 및 소프트웨어 제어 모델을 갖추고 있어 운영 및 프로세스 모니터링이 용이합니다. 이 장비에는 고급 자동화 (automation) 기능이 장착되어 있어 처리량이 높고 운영자의 개입이 줄어듭니다. 응용 프로그램: TEL UNITY 2E 85 DD는 박막 에칭 및 애싱, 패턴 전송, 저항 스트리핑, 강하 프로세스 등 다양한 반도체 제조 응용 분야에 적합합니다. 이 시스템은 일반적으로 논리 장치, 메모리 장치, MEMS 장치, 전원 장치 등 고급 반도체 장치의 생산에 사용됩니다. 전반적으로 TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD는 최고의 성능, 신뢰성 및 프로세스 제어를 제공하는 최첨단 에처/애셔 장치입니다. 고급 기능, 다양한 어플리케이션, 사용자 친화적 설계를 갖춘 UNITY 2E 85 DD는 고품질 장치 제작과 생산성 극대화를 추구하는 반도체 제조업체에 적합한 자산입니다.