판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON TSP-3055DD #9252309

TEL/TOKYO ELECTRON TSP-3055DD는 반도체 프로세스에 대한 고정밀 기판을 제공 할 수있는 고급 에처 또는 애셔입니다. TEL 은 단일 웨이퍼 (wafer) 처리 툴로, 프로세서, 메모리, 기타 집적 회로와 같은 반도체 제품을 생산하기 위해 설계되었습니다. TEL TSP-3055DD (TEL TSP-3055DD) 는 높은 수준의 균일성과 속도를 제공하도록 설계되어 다양한 생산 요구에 적합합니다. TOKYO ELECTRON TSP-3055DD (TOKYO ELECTRON TSP-3055DD) 의 중심에는 매우 정확하고 기능에 대한 높은 수준의 균일성을 달성 할 수있는 에처 헤드가 있습니다. 에처는 확산 흐름 제어 기술을 갖추고 있으며, 분당 최대 20 밀리리터의 질소-수소 가스 유량을 제공합니다. 전극 판은 최적의 에칭 속도를 달성하기 위해 세밀하게 조정되고 세밀하게 형성됩니다. 이는 시간당 최대 60 웨이퍼의 높은 처리량을 가능하게 하며, 반도체 부품의 고속 생산을 가능하게 합니다. 또한 etcher 헤드에는 APS-3000 포지셔닝 시스템이 장착되어 있어 정확한 공구 정렬 및 높은 수준의 오버레이 (overlay) 정확성을 제공합니다. TSP-3055DD는 또한 공정 제어 시스템 (process control system) 을 갖추고 있으며, 기판 공정의 정확한 전달에 필수적입니다. 공정 매개변수 (예: etch time 및 gas flow rate) 는 처리 중인 기판 유형에 따라 자동으로 조정되므로, 가장 정밀도가 높은 부품이 생성됩니다. 이 시스템은 또한 광범위한 에찬트 (etchant) 를 사용하여 도구의 다양성을 증가시킵니다. TEL/TOKYO ELECTRON TSP-3055DD에는 etcher에 대한 원격 모니터링 및 제어가 가능한 고급 통신 모듈도 제공됩니다. 여기에는 프로세스 매개 변수에 대한 원격 모니터링이 포함되므로 유지 보수 인력의 필요성이 줄어듭니다. 또한, 통신 모듈은 주어진 기판의 에치 레시피 (etch recipe) 를 튜닝하는 데 사용될 수 있으며, 처리 시간을 최적화하고 폐기물을 최소화하는 데 도움이됩니다. 결론적으로, TEL TSP-3055DD는 매우 정확하고, 빠르고, 다재다능한 etcher 또는 asher이며, 현대 반도체 생산 산업의 요구를 충족하도록 설계되었습니다. 확산 흐름 제어 기술, 미세 조정 전극, 고급 제어 시스템 (Advanced Control System) 과 같은 기능은 고정밀, 대용량 기판을 생산하기에 이상적인 도구입니다. 자동화 기능과 원격 모니터링 기능을 통해 운영 환경에 적합한 솔루션을 구축하고, 생산성을 높이고, 유지 보수 부담을 줄일 수 있습니다 (영문).