판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON TSP-3055DD #293744368

TEL/TOKYO ELECTRON TSP-3055DD Etcher/Asher TEL TSP-3055DD에 대한 설명은 반도체 제조 장비 제조업체 인 TEL이 계획하고 생산 한 저명한 에처/애셔 장비입니다. 이 고급 시스템은 고정밀도 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 제공하도록 설계되어 현대 반도체 장치 생산에 없어서는 안될 도구입니다. TOKYO ELECTRON TSP-3055DD (TOKYO ELECTRON TSP-3055DD) 는 광범위한 기판 크기와 재료를 수용할 수있는 다용도 플랫폼을 갖추고 있어 반도체 업계의 다양한 용도에 적합합니다. 이 장치에는 고급 플라즈마 에칭 (plasma etching) 및 애싱 (ashing) 기능이 장착되어 있어 종횡비가 높고 복잡한 기판을 정확하고 균일하게 처리 할 수 있습니다. TSP-3055DD의 핵심에는 가스 구성, 압력, 온도 및 RF 전력과 같은 플라즈마 매개변수를 정확하게 제어 할 수있는 정교한 플라즈마 챔버가 있습니다. 이 정밀 한 조절 을 통해 광물질 (photoresist), 산화 실리콘 (silicon oxide), 질화 실리콘 (silicon nitride) 및 그 밖 의 물질 을 기판 표면 에서 효과적 으로 제거 할 수 있으며, 이 물질 은 선택성 이 높고 기본 층 에 대한 피해 가 최소화 된다. TEL/TOKYO ELECTRON TSP-3055DD는 운영자가 에칭 및 애싱 프로세스를 쉽게 프로그래밍하고 모니터링 할 수있는 사용자 친화적 인 인터페이스를 갖추고 있습니다. 이 시스템은 레시피 관리, 실시간 프로세스 모니터링, 데이터 로깅 (Data Logging) 등 고급 자동화 기능을 갖추고 있어 일관되고 반복 가능한 프로세스 결과를 보장합니다. TEL TSP-3055DD에는 여러 개의 가스 분사 포트가 장착되어 있으며, 특정 응용 요구 사항에 따라 에칭 및 애싱 프로세스를 조정하기 위해 산소, 플루오린, 염소, 아르곤 등 다양한 공정 가스를 사용할 수 있습니다. 이 도구는 또한 이중 소스 플라즈마 생성 에셋 (dual-source plasma generation asset) 을 특징으로하여 여러 가스를 동시에 사용하여 플라즈마 화학 및 에칭 속도를 정확하게 제어 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON TSP-3055DD (TOKYO ELECTRON TSP-3055DD) 는 안전 및 신뢰성을 염두에 두고 설계되었으며, 내장 인터 록, 가스 흐름 센서 및 압력 모니터를 통해 안전한 작동을 보장하고 잠재적인 위험을 방지합니다. 이 모델은 또한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스 동안 균일 한 기판 가열을 유지하기 위해 고급 온도 제어 시스템을 통합하여 전체 기판 표면에서 일관된 프로세스 결과를 초래합니다. 결론적으로, TSP-3055DD etcher/asher 장비는 반도체 산업에서 고정밀 플라즈마 에칭 및 애싱 응용을위한 강력하고 다재다능한 도구입니다. 고급 기능, 사용자 친화적 인터페이스, 견고한 설계를 갖춘 TEL/TOKYO ELECTRON TSP-3055DD는 일관되고 안정적인 프로세스 결과를 제공하므로 반도체 제작 설비가 생산 프로세스의 품질과 효율성을 향상시키는 데 필수적인 툴입니다.