판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9378307

TEL/TOKYO ELECTRON Trias는 최신 반도체 제작 프로세스에 사용하도록 설계된 고성능 에처/애셔입니다. TEL 트라이어스 (TEL Trias) 시리즈 에처 (etcher) 는 다양한 고급 기술을 활용하여 에칭 프로세스의 각 단계를 정확하고 빠르게 완료할 수 있도록 높은 처리량과 신뢰성을 위해 설계되었습니다. 따라서 TOKYO ELECTRON Trias는 3D IC 패키징 및 MEMS 제조와 같은 반도체 제작 프로세스에 인기있는 선택이되었습니다. Trias 시리즈는 폐쇄 루프 장비를 사용하여 전체 에칭 프로세스를 제어합니다. 이 폐쇄 루프 시스템은 전체 기판에 균일 한 에칭을 달성하기 위해 3 축 가스 샤워 (gas shower) 를 사용합니다. 그런 다음 PID (Proportional-Integral-Derivate) 컨트롤러를 사용하여 에칭 프로세스 전반에 걸쳐 정확한 기판 온도가 유지됩니다. 이 닫힌 루프 유닛은 TEL/TOKYO ELECTRON Trias의 자동 와프트 제어 머신 (automated waft control machine) 에 의해 더욱 보완되어 균일 한 에칭 결과로 여러 기판을 한 번에 식각 할 수 있습니다. TEL Trias 시리즈는 가변 주파수 마이크로 파 코일과 고급 플라즈마 발전기로 구별됩니다. 이 구성 요소는 원하는 모든 에친트 가스의 균일 한 플라즈마를 생성하는 데 사용됩니다. 이를 통해 TOKYO ELECTRON Trias는 1 단계 에치 프로세스를 취할 수 있습니다. 여기서 가스가 다양한 에칭 단계가 한 번에 완료됩니다. 또한 트리어스 (Trias) 는 통합 가스 패널을 자랑하며, 이를 통해 사용자는 원하는 결과를 얻기 위해 에칭 가스를 빠르고 쉽게 변경할 수 있습니다. 즉, 사용자는 에칭 프로세스를 안정적이고 연속적으로 유지하면서 에칭 가스를 쉽게 전환 할 수 있습니다. 또한, 통합 가스 패널 (integrated gas panel) 을 사용하면 필요한 경우 에칭 프로세스를 세밀하게 조정하여 보다 복잡한 결과를 얻을 수 있습니다. 마지막으로, TEL/TOKYO ELECTRON Trias etcher는 OSHA 규격을 준수하며, 이는 반도체 제조 프로세스가 안전 및 법적 표준에 부합하도록 보장하려는 사람들에게 중요합니다. 따라서 텔 트라이어스 (TEL Trias) 는 복잡하고 정확한 에칭 결과를 빠르고 안정적으로 생성하려는 사람들에게 이상적인 도구입니다.