판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9362298

TEL/TOKYO ELECTRON Trias는 Wafer에서 화합물 반도체 층의 얇고 패턴화를 위해 특별히 설계된 TEL의 etcher/asher 장비 장비입니다. 이 시스템은 반도체 장비 산업의 TOKYO ELECTRON 장기 전문성을 바탕으로 제작되어 사용자에게 정밀 에칭 (eching) 및 애싱 (ashing) 프로세스의 최신 기술을 제공합니다. TEL Trias는 직류 (DC) 에칭 및 원소 반응성 이온 에칭 (RIE) 을 화합물 반도체 또는 에치 패턴 피쳐의 얇은 층으로 사용합니다. 그 자체로 TOKYO ELECTRON Trias는 O2-plasma, NF3-plasma, CF4-plasma 및 Ar-plasma를 사용하여 에치 할 수 있습니다. Trias는 SiH4- 플라즈마, N2O- 플라즈마 및 O2F2- 플라즈마와 같은 다른 플라즈마 소스와 결합 될 수도 있습니다. 이 장치의 주요 기능은 UCO (Uniformity Control Option) 입니다. 모든 웨이퍼 영역에서 에칭의 균일성을 향상시키는 데 도움이됩니다. 이 옵션은 완전 자동 (fully automated) 컨트롤러를 사용하여 각 웨이퍼 위치에 대해 서로 다른 필름의 에치 속도를 제어합니다. 이 프로세스는 각 웨이퍼를 통해 더 균일 한 에칭을 생성하는 데 도움이됩니다. TEL/TOKYO ELECTRON Trias는 또한 에칭 과정에서 생성 된 폐기물 화학 물질의 양을 줄이기 위해 설계되었습니다. 정해진 점에서 에칭 프로세스를 마무리하는 [끝점 중지] 옵션이 있습니다. 이것 은 각 "에칭 '에 사용 되는" 에너지' 와 재료 의 양 을 줄여 주며, 기계 를 보다 친환경적 이 되게 한다. TEL Trias에는 많은 정교한 안전 기능이 있습니다. 에칭 프로세스 전체에서 온도, 압력 및 가스 수준을 모니터링합니다. 또한, 비정상적인 화학 물질 또는 온도 측정이 감지 될 때 프로세스를 빠르게 종료하는 비상 차단 (emergency shut-off) 스위치가 있습니다. 결론적으로, TOKYO ELECTRON Trias는 반도체 산업의 요구를 충족시키기 위해 설계된 효율적이고, 안정적이며, 안전한 에칭 도구입니다. 뛰어난 에칭 정확도, UCO 옵션 및 내장 안전 기능; Trias는 복합 반도체 층과 패턴 화 된 기능을 웨이퍼에 에칭하는 데 적합합니다.