판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9118411

TEL/TOKYO ELECTRON Trias는 금속, 반도체 재료 및 세라믹 기판을 포함한 광범위한 물질에서 일관된 에칭 결과를 제공하도록 설계된 고속 에처/애셔입니다. 고급 진공 에칭 기술을 활용하여 높은 정확성과 반복 성을 제공합니다. 에처/애셔는 스퍼터 에칭 (sputter etching), 에치 백 (etchback) 또는 스톱 에칭 (stop-etching) 후의 포토 esist planarization, 필름 스트레스 릴리프 (film stress relief) 및 도달하기 어려운 영역에서 휴회 형성과 같은 다양한 응용 분야에 사용될 수 있습니다. 에처/애셔 (etcher/asher) 에는 에칭/애싱 영역을 정확하게 제어 할 수있는 진공 장비가 장착되어 있습니다. 고급 에칭 챔버 (eching chamber) 와 시스템 내부의 청소실 수준을 유지하는 진공 방패가 특징입니다. 또한, 에칭 조건을 정확하게 측정하고 설정하기 위해 광 장치 및 ACP (Auto-Collimation Probe) 가 장착되어 있습니다. 이 에처/애셔에는 강력한 고주파 RF 발전기가 장착되어 광범위한 재료를 에치 할 수있는 에너지를 제공합니다. 에칭 프로세스는 통합 컴퓨터 머신 (integrated computer machine) 에 의해 모니터링 및 제어되며, 처리 중인 재료에 따라 에칭 매개변수를 세밀하게 조정하는 데 사용할 수도 있습니다. 이 도구에는 처리 매개변수 조정, 에칭 속도 측정, 처리 결과 컴파일 등을 위한 소프트웨어도 들어 있습니다. 이 에처/애셔 (etcher/asher) 는 다양한 응용 프로그램에 사용할 수있는 다양한 기능과 도구를 갖추고 있습니다. 예를 들어, 에칭 챔버 (etching chamber) 에 반응성 가스를 도입하기위한 가스 자산과 에칭 (etching) 동안 화학 물질을 첨가하기위한 화학 전달 모델이 있습니다. 게다가, 웨이퍼 및 기타 재료를 에치 (etch) 하고 평면 화시키는 데 사용할 수있는 고온의 아노다이징 챔버가 장착되어 있습니다. 안전성 측면에서 TEL Trias는 etcher/asher, ozone-free 배기 장비 및 RF 발전기를 해제하는 자동 차단 기능과 같은 특별 비상 정지 (E-STOP) 기능과 같은 안전 기능으로 설계되었습니다. 규격 문제. 이 시스템에는 또한 유해 수준의 오존을 감지하기위한 자동 안전 장치가 있습니다. 전체적으로 TOKYO ELECTRON Trias는 광범위한 재료에서 일관된 에칭 결과를 달성 할 수있는 고성능 에처/애셔 (etcher/asher) 입니다. 첨단 에칭 (etching) 기술, 안전 (safety) 기능, 다양한 에칭 및 애싱 (ashing) 공정을 처리하기 위한 다양한 도구를 갖추고 있어 다양한 반도체 장치 제조 응용 분야에 적합합니다.