판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293821837

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 293821837
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2004
Metal Chemical Vapor Deposition (CVD) system, 12" Process: Ta₂O₅ Thin-film deposition (2) Chambers 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias는 반도체 및 기타 산업을위한 고성능 플라즈마 에처/애셔입니다. 작은 반도체 구조를 에치/애시하고 정확하고 안전하게 웨이퍼하는 데 사용됩니다. 모듈식 설계 및 통합 프로세스 제어 소프트웨어를 통해 효율적이고, 비용 효율적이며, 고급 에칭/어칭 프로세스를 제공합니다. TEL Trias는 다양한 플라즈마 에칭/애싱 작업을위한 다용도 플랫폼을 제공합니다. TOKYO ELECTRON Trias는 단면 및 양면 웨이퍼, 세라믹 코팅, 금속 코팅 및 석영 코팅 웨이퍼와 같은 다양한 기판에 대해 최고의 정밀 에칭/애싱을 제공하도록 설계되었습니다. 결정질, 폴리 결정질, 세라믹, 실리콘 등 다양한 물질 유형의 제품을 처리 할 수 있습니다. 또한 매우 정확한 압력 제어 장비 (Pressure Control Equipment) 를 통해 매우 높은 에치 속도 (Etch Rate) 정확도와 반복성을 제공하여 매우 높은 정밀도로 복잡한 프로세스를 식각 할 수 있습니다. Trias에는 사전 스퍼터 (pre-sputter), 스퍼터링 (sputtering), 에칭 (etching) 및 스퍼터/에치 (sputter/etch) 와 같은 여러 작동 모드가 있으며 한 번에 하나의 작업 또는 여러 작업을 함께 수행하는 기능이 있습니다. 통합 프로세스 제어 (Integrated Process Control) 소프트웨어는 단일 버튼 작업을 통해 여러 프로세스를 동시에 모니터링하고 주문할 수 있습니다. 또한 TEL/TOKYO ELECTRON Trias는 최대 99 개의 사전 프로그래밍 된 레시피 단계를 저장하여 최적의 에칭/애싱 작업을 허용합니다. TEL Trias는 또한 HSAR (High Speed Automatic Recipe Control) 시스템을 갖추고 있습니다. HSAR (High Speed Automatic Recipe Control) 시스템은 사용자 정의 가능한 레시피에 빠르고 쉽게 액세스 할 수 있으며, 정밀도, 정확도 및 반복성으로 다양한 재료 및 웨이퍼 크기를 가져올 수 있습니다. 또한 사용자 친화적 인 소프트웨어에는 냉각 장치 (cooling unit) 가 내장되어 있어 냉각 속도가 빠르고 웨이퍼 워핑을 방지할 수 있습니다. 또한 자동화된 '스마트 홈 (Smart Home)' 기능을 통해 모든 구성 요소와 액세서리가 작업별로 올바른 위치에 있으므로 설치 준비 시간이 오래 걸리지 않습니다. 마지막으로, TOKYO ELECTRON Trias에는 에칭/애싱 작업과 관련된 모든 데이터를 기록하는 장기 데이터 기록 기계가 장착되어 있습니다. 이 데이터는 플랜트 관리, 공정 개발, 결함 분석 등에 사용될 수 있습니다. 기록 도구는 또한 순차 데이터 형식의 이벤트 기록 (event history) 을 갖추고 있으며, 사용자가 처리된 웨이퍼를 분석하고 잠재적 문제를 조사 할 수 있습니다.
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