판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293605722

TEL/TOKYO ELECTRON Trias는 고급 반도체 장치 및 기타 복잡한 장치를 제작하고 가공하는 데 사용되는 고급 에칭/애싱 (에치백) 기계입니다. TEL 트리아스 (TEL Trias) 는 습식 및 건식 에칭 기능을 모두 갖춘 다기능 머신으로 설계되어, 제어 환경과 광범위한 재료에서 에치/애쉬 (etched/ashed) 프로세스를 수행 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON Trias에는 에칭/애싱 공정에서 높은 반복성과 정확성을 제공하는 정밀 디지털 제어 장비가 있습니다. Trias는 2 개의 에칭/애싱 챔버를 특징으로하며, 각 챔버는 다양한 컵핑/에치백 프로세스를 지원합니다. 첫 번째 챔버 인 습식 에칭 챔버 (wet etching chamber) 에는 진공과 액체 기반 에찬트가 장착되어 있습니다. 습식 에칭 챔버는 아모퍼스 실리콘 (Amorphous Silicon) 과 폴리 -Si 게 (Poly-Si Ge) 와 같은 두 재료의 웨이퍼를 처리하고 알루미늄 및 구리 표면의 우수한 에칭/애싱을 제공하는 데 적합합니다. 두 번째 챔버 인 드라이 에칭 챔버 (dry etching chamber) 는 건조하고 비 진공 에칭/애싱 프로세스를 지원합니다. 이 약실은 폴리 이미드 얇음, 고급 패턴화 및 드라이 필름 에칭 (dry film etching) 과 같은 프로세스에 적합합니다. TEL/TOKYO ELECTRON Trias는 최적의 에칭/애싱 성능을 보장하기 위해 산소 유입 시스템, 자체 진단 장치 및 RF 전원 공급 장치와 같은 광범위한 구성 요소로 설계되었습니다. TEL Trias에는 자동 웨이퍼 처리 머신 (automated wafer handling machine) 이 있으며, 최대 1mm 두께의 기판 및 레이어를 포함하여 에칭/애싱에 적합한 다양한 웨이퍼 크기를 사용할 수 있습니다. 완전하게 자동화된 프로세스 제어는 프로세스 중에 etching/ashing 매개변수를 추적 및 제어할 수 있습니다. 효과적인 에칭/애싱 머신 외에도 TOKYO ELECTRON Trias (TOKYO ELECTRON Trias) 는 웨이퍼의 청소 및 건조와 관련하여 강력합니다. 청소 과정에는 심하게 라벨이 붙어 있고 오염 된 표면의 퇴화, 자동 질소 거품 생성 및 액체 처리가 포함됩니다. 또한 트라이어스 (Trias) 에는 다기능 건조 기능이 있으며, 이는 고운 입자와 대형 입자를 모두 고효율과 속도로 건조 할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON Trias (TEL/TOKYO ELECTRON Trias) 는 높은 정확성과 반복성으로 습식 및 건식 에칭/애싱 프로세스를 갖춘 고급 반도체 장치 및 기타 복잡한 장치를 생산할 수있는 기계의 훌륭한 예입니다. TEL Trias 의 광범위한 프로세스 기능, 사용이 간편한 자동 제어 기능, 높은 수준의 프로세스 반복 기능, 업계 및 연구/개발 애플리케이션에 이상적인 echer/asher 가 됩니다.