판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN #9253877

TEL Trias TI/TIN은 다양한 에칭 (etching) 및 스트리핑 (stripping) 기술을 결합하여 다양한 저항 및 기판 재료를 위한 매끄럽고 고품질 에칭을 제공하는 대용량 자동 에처입니다. TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN 장비는 고급 스탠션 내성 및 전자기 보호 계층으로, 품질이 손상되지 않고 안정적이고 대용량 에칭을 보장합니다. Shape Wizard 소프트웨어를 사용하여 임의의 프로세스 계획을 지원하며, 강력하고 안정적인 PECVD 모니터로 가동 중지 시간을 크게 줄입니다. TEL/TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN 에처에는 2 개의 플라즈마 소스, 이온 전류의 50mA를 제공하는 편향된 소스 및 조정 가능한 에칭 파워를위한 편향되지 않은 소스가 장착되어 있습니다. 각 소스는 독립적으로 조정 가능한 플라즈마 매개변수와 온도를 가지고 있으며, 이를 통해 에칭 중에 최적의 제어를 할 수 있습니다. 이를 통해 다른 재료 간의 고품질 에치와 좋은 선택성을 가능하게하여 TEL Trias TI/TIN은 많은 사람들에게 인기있는 선택입니다. 또한 광범위한 입력 (Input) 및 출력 전압 (Output Voltage) 매개변수를 지원하므로 의료 및 반도체 장치와 직접 호환됩니다. 또한, TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN의 공정 챔버는 오염을 줄이고 온도 및 압력 변동과 관련된 반응 챔버 드리프트를 줄이기 위해 견고하게 만들어졌습니다. 방은 또한 다른 에치 응용에 대해 쉽게 열리고, 청소하고, 조정 할 수 있습니다. 또한 스트립 및 HF 프리 클린 프로세스를위한 추가 미니 셔터 챔버 (mini-shutter chamber) 와 높은 강성 재료를위한 스퍼터 에치와 관련된 특수 프로세스가 포함되어 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN의 전체 제어 시스템은 매우 강력하며, 손쉬운 작업 프로그래밍 및 thinfilm 패턴에서 에치 패턴 인식 (etch pattern recognition) 을 위해 설계된 그래픽 사용자 인터페이스 인 Shape Wizard뿐만 아니라 다양한 제어 구성 요소를 포함합니다. 이 장치에는 자동 조정 시간 설정기, ESC 키, 다국어 지원 메뉴, 프로세스 모니터링에 도움이 되는 제어 설정 창 (control setting window) 및 경보 창 (alarm window) 이 포함되어 있습니다. 또한 ECO 모드도 포함되어 있습니다. ECO 모드는 플라즈마 소스의 부하를 최적화하여 에칭 비용을 낮게 유지하는 데 도움이 되며, 프로그래밍된 한도를 초과하면 자동으로 전원을 차단하는 OVLF (overload protection) 머신입니다. 결론적으로, TEL Trias TI/TIN은 최고 효율성과 최적의 결과를 위해 설계된 매우 신뢰할 수있는 에처입니다. 다용도 플라즈마 소스 (Plasma Source), 강력한 프로세스 챔버 (Process Chamber) 및 강력한 제어 도구 (Control Tool) 와 같은 고급 기능은 다양한 에칭 응용 프로그램에 이상적인 선택입니다.