판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Telius 305 DRM #9294211

TEL/TOKYO ELECTRON Telius 305 DRM은 고품질의 고성능 에칭 솔루션을 위해 설계된 자동 건식 에처 장비입니다. 이 에처는 고급적이고 검증된 Telius 305 플랫폼을 기반으로하며, 다양한 응용 분야에서 수년간 사용되었습니다. 이 시스템은 독점적 인 전자 빔 가열 및 수소 플라즈마 소스 기술을 사용하여 유리, 석영, 실리콘, 알루미나 및 기타 세라믹과 같은 다양한 물질의 기판을 균일하게 에칭합니다. 이 장치는 특히 정밀도와 균일성이 높은 반도체 장치 에칭 및 패턴화에 적합합니다. 3 축 스테이지와 큰 웨이퍼 직경이 200mm ~ 300mm 인 에처 (etcher) 는 다양한 기판을 수용 할 수 있습니다. 또한 Telius 305 플랫폼은 산화물 에칭, 스퍼터링, 플라즈마 에칭 및 딥 레지스트 에칭과 같은 다양한 프로세스에 대해 사용자 정의 할 수 있습니다. 기계는 지연 된 반사 작동 모드와 빔 블랭킹 펄스 (beam blanking pulse) 를 사용하여 균일 한 빔 강도를 보장하여 균일 한 웨이퍼 에칭을 보장합니다. 최첨단 가변 기울기 에칭 및 가변 지터링, 가변 정전기 처킹이 특징입니다. 또한, 이 도구에는 정확한 에치 레이트를 보장하기 위해 고급 온도 조절 (temperature control) 기능이 장착되어 있습니다. TEL Telius 305 DRM은 프로세스 제어 및 데이터 획득 기능으로 설계되어 매개 변수의 반복성과 정확성을 보장합니다. 자산은 프로세스 레시피를 저장할 수 있으며, 다양한 에칭 (etching) 애플리케이션에 대해 여러 레시피를 저장할 수 있으므로 프로세스 최적화를 쉽게 수행할 수 있습니다. 이 모델은 또한 셔터리스 (shutterless) 광학 빔 셔터를 사용하여 프로세스를 더 잘 볼 수 있습니다. 장비는 매우 컴팩트하며 설치 공간을 최소화해야 합니다. 강력한 디자인은 고속 디지털 컨트롤 시스템 (Digital Control System) 과 고성능 디지털 서보모터 (Servomotor) 와 연계되어 안정적이고 효율적입니다. TOKYO ELECTRON Telius 305 DRM은 유지 보수와 높은 가동 시간을 위해 설계되었습니다. 또한 빠른 속도와 높은 처리량을 제공합니다. 전반적으로 Telius 305 DRM은 다양한 기판의 고정밀도 및 균일 한 에칭에 적합한, 고급, 신뢰성, 효율적인 에처 장치입니다. Etcher 의 견고한 설계, 고급 온도 조절 기능, 프로세스 제어 (Process Control) 및 데이터 수집 (Data Acquisition) 기능을 통해 광범위한 애플리케이션에 적합합니다.