판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY B #293818325

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY B는 탁월한 에치 레이트 균일성, 고속 및 뛰어난 반복성을 제공하도록 설계된 고성능 에칭 도구입니다. 광범위한 플라즈마 에칭 및 드라이 에칭 응용 분야에 이상적입니다. TEL TELINDY B는 수정 된 버전의 TEL 오리지널 TELINDY 처리를 사용하여 처리량을 높인 우수한 에치 속도 균일성을 생성합니다. 이 공정 챔버 (Process Chamber) 는 TELINDY 기술을 사용하여 챔버 전체의 균질 한 재료 처리를 통해 효율적인 에칭 성능을 보장합니다. 또한 처리 시간과 유량에 관계없이 안정적인 플라즈마 밀도를 보장합니다. TOKYO ELECTRON TELINDY B에는 에칭을위한 고성능 플라즈마 소스도 포함되어 있습니다. 높은 수준의 정밀도를 유지하면서 처리량을 향상시키고 프로세스 시간을 단축합니다 (영문). 고출력 플라즈마 소스를 사용하면 복잡한 모양을 가져올 때 마스크 정렬이 개선되고, 고밀도 에칭이 가능합니다. TELINDY B는 또한 정확한 프로세스 튜닝 및 반복성을 위해 고급 지능형 제어 시스템을 갖추고 있습니다. 에치 (etch) 프로세스의 매개변수를 실시간으로 제어할 수 있으므로, 각 프로세스의 프로세스 최적화 및 최적화를 쉽게 수행할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY B는 습식 에칭, 플라즈마 에칭 및 기타 고성능 에칭 응용 분야에 사용될 수 있습니다. "실리콘 ', 질화" 갈륨', "실라이드 '백금 및 그 밖 의 물질 을 식각 하는 데 적합 하여 매우 복잡 한 용도 에 고도 의" 에칭' 이 필요 하다. 작동이 용이하며, 직관적인 제어 시스템을 통해 프로세스 최적화를 단순화할 수 있습니다. 다목적 TEL TELINDY B에는 에칭 기능을 향상시키기 위해 설치할 수있는 옵션 구성 요소가 제공됩니다. 모듈식 베벨 헤드 (bevel-head) 어셈블리는 향상된 마스크 정렬 정확도를 제공하는 반면, 헤드 히터는 사전 에칭 (pre- eched) 마스크의 필요성을 제거하고 복잡한 레이어에 대한 짝수 에치 깊이를 제공합니다. 또한 고급 자동 초점 기능 (Advanced Automatic Focus Feature) 은 에칭 중에 빔이 계속 집중되고 안정적으로 유지됩니다. TOKYO ELECTRON TELINDY B는 반도체 제조, 유전체, 광전자 및 MEMS/NEMS와 같은 다양한 산업에서 사용하도록 설계되었습니다. 이것은 정밀 전자 장치와 부품을 에칭하는 데 이상적인 선택입니다. 뛰어난 반복 능력, 고속 및 고정밀 성능을 통해 안정적이고 경제적인 결과를 얻을 수 있습니다.