판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K #9282599
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판매
ID: 9282599
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2015
Vertical LPCVD Furnace, 12"
VCM-5D-012L Heater
Maximum operating temperature: 300°C
ART Control
N2 Load lock
Wafer type: Si SEMI STD-Notch
(50) Production wafers
Loading area light: White (LED)
RCU Duct length FNC to RCU: 20m
Chemical prefilter hydrocarb
Chemical prefilter location: FNC Top
Dry pumps missing
Wafer / Carrier handler:
Carrier type: FOUP / 25-Slots SEMI STD
ENTEGRIS A300 FOUP
Carrier stage capacity: 10
Info pad A,B: Pin
Info pad C,D: Pin
Fork material: Al2O3
Furnace facilities:
Furnace exhaust connection point: Top connection
Cooling water connection point: Bottom connection
Air intake point: Top
Gas distribution system:
IGS Type: IGS 1.5" W-Seal rail-mount
FUJIKIN IGS System
Tubing bends: <90°C
PALL IGS Final filter
IGS Regulator: CKD
HORIBA STEC IGS MFC Digital
HORIBA SEC-G111 IGS MFC For low flow N2 purge
IGS Press transducer: Nagano
HORIBA STEC LSC-F530 Liquid source vapor system
For ZAC HORIBA STEC TL-2014
Auto refill system TMA: AIR LEQUIDE / CANDI
Auto refill system ZAC: AIR LEQUIDE / CANDI
OP-500H-RE1 Ozone delivery system
Injector O-Ring material: DU353
Gas facilities:
Incoming gas connection point: Bottom connection
Gas VENT Connection point: Bottom connection
Exhaust VENT Connection point: Bottom connection
Gas unit exhaust connection point: Bottom connection
Exhaust:
Vacuum gauge pressure controller: MKS Capacitance manometer (Hot)
Vacuum gauge press monitor 133 kpa: MKS Capacitance manometer (Hot)
Vacuum gauge pump monitor: MKS Capacitance manometer (Hot)
CKD VEC-VH8-X0110 Main valve
VYX-0279-CONT Controller
EDWARDS iXH-1820T Pump
EDWARDS TPU Abatement system
Type: Burning type
Exhaust box: Wide type (1200mm)
Exhaust O-Ring material: DU353
FNC Power box: 30m
FNC RCU: 30m
Power box RCU: 30m
Power box pump unit: 30m
Power box refill system: 30m
Host communications: Comply with GJG
Equipment host I/F Connection: Power box top HSMS (10Base-T/100Base-TX)
Ingenio
OHT Capability
Load port operation: Lower and upper
PIO I/F Location: FNC Top
PIO: TEL
HOKUYO DMS-HB1-Z PIO
Carrier ID Reader writer type: RF
CIDRW Lower L/P: Read
CIDRW Upper L/P: Read
CIDRW FIMS: Read / Write
CIDRW: HOKUYO DMS-HB1-Z Series
CIDRW Tag orientation: Vertical
Customized management signals: PT / Water
Interface:
Signal tower model: LCE Series
Signal tower colors: Red / Blue / Yellow / Green
Signal tower location: Front for (10) Stockers (Left)
Front operation panel
MMI and gas flowchart: Gas box and front operation panel Installed
Indicator type: HOKUYO DMS-HB1-Z series
Operator switch: Operator access / White cover with orange light
Pressure display unit: MPa / Torr
Cabinet Exhaust pressure display: Pa
Power:
Power cable input entrance loc: Power box top
Power supply:
3 Phase connection type: Star connection
200/400 VAC, 60 Hz, 3 Phase
2015 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K는 고급 전자 장치 제조를 위해 설계된 최첨단 에처/애셔입니다. 이 장비는 초박막의 균일 한 에칭 (etching) 과 재싱 (ashing) 을 최대 +/- 15A의 정확도로 제공하여 뛰어난 제조 성능을 제공합니다. 설치 공간이 줄어들고 높이가 21cm 밖에되지 않는 TEL Telformula ALD High-K는 다른 애셔에 비해 뛰어난 사용 편이성을 갖추고 있어 높은 정밀 에칭이 필요한 어플리케이션에 적합합니다. TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K에는 다양한 프로세스 영역에 높은 에치 및 애싱 기능을 제공하는 고급 CIU (Chamber Interface Unit) 가 있습니다. 저압 (low pressure), 고온 (high temper) 및 저열 예산 (low thermal budget) 을 결합하여, 이 장치는 반복 가능하고 제어 가능한 방식으로 복잡한 구조와 기능을 만들 수 있으며, 우수한 결과를 제공합니다. 또한 Telformula ALD High-K (Telformula ALD High-K) 는 주사 마스크로 더 복잡한 패턴을 제작하고 라인 및 공간 형상을 사용하여 더 세밀한 기능을 생성 할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K에는 전체 에치 시간을 줄이면서 에치 속도를 높이는 조정 가능한 공명 주파수를 가진 통합 펄스 플라즈마 모드 (Pulsed Plasma Mode) 가 있습니다. 이를 통해 다양한 씬 필름 (Thin Film) 과 애플리케이션에 더 빠른 턴어라운드를 할 수 있습니다. 또한 TEL Telformula ALD High-K는 완전히 자동화 된 로봇 웨이퍼 로딩 및 품질 제어 시스템을 제공하여 프로세스 제어 및 반복 성을 향상시킵니다. TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K (Tokyo ELECTRON Telformula ALD High-K) 는 가장 까다로운 어플리케이션에 1 년에 한 번만 정기 유지 보수가 필요한 내구성과 신뢰성을 갖도록 만들어졌습니다. 이 장치 는 또한 금속, 합금, 도자기 와 같은 여러 가지 재료 와 호환 될 수 있도록 설계 되었는데, 이 장치 는 여러 가지 공정 요구 조건 이 있는 제조업체 들 에게 더 다양성 을 제공 해 준다. 그렇다. 전반적으로 Telformula ALD High-K는 프로세스 제어 기능이 뛰어난 다양한 최신 전자 장치를 위해 설계된 안정적이고 정밀한 에처/애셔 (etcher/asher) 입니다. 공명 주파수를 조정하는 기능을 갖춘 다양한 에치 (etch) 및 애싱 (ashing) 모드를 제공하여 프로세스 제어 및 선행 시간 (turn-around time) 을 개선합니다. TEL/TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K는 내구성과 안정성을 제공하도록 설계되었으며, 다양한 재료와의 호환성을 제공하여 제조업체에 더 다양한 생산성을 제공합니다.
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