판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9149552

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K는 유전체 재료, 금속 및 합금을 포함한 다양한 반도체 재료를 에치하도록 설계된 에처/애셔입니다. 이 기계는 소형, 독립형 에칭 장비로, 온웨퍼 (on-wafer) 또는 배치 에칭 공정의 유연성을 제공합니다. 웨이퍼 (wafer) 의 에치 공정의 초정밀 측정을위한 통합 쿼츠-크리스탈 마이크로 밸런스 (quartz-crystal microbalance) 와 웨이퍼 재료의 광학적 종점 검출이 특징입니다. TEL TELFORMULA ALD High-K는 고급 전력 제어, 열 산화 속도, 에치 속도, 에치 가스 구성, 가스 압력 제어 등 광범위한 프로세스 매개 변수를 통해 고급 프로세스 제어를 제공합니다. 이 시스템은 또한 사용자에게 친숙한 GUI (Graphical User Interface) 와 여러 프로세스에 대한 고급 클러스터 기반 클러스터 제어를 제공합니다. 이 장치는 선형 동축 RF 생성기 (Linear Coaxial RF Generator) 를 사용하여 최소한의 측면 손상으로 재료를 정확한 깊이로 가져올 수 있습니다. 이 기능은 더 높은 균일성과 더 나은 이미징 결과를 제공합니다. 이 장치는 또한 맞춤형 전기 특성을 가진 레이어를 생산하기 위해 정확한 박막 (thin-film) 증착을 제공하며 광학 석판화 (optical lithography) 의 구현을 용이하게하기위한 포괄적 인 도구 세트를 갖추고 있습니다. 기계의 프로세스 가스 소스 (process gas source) 를 통해 사용자는 에치 레이트 (etch rate) 를 제어하고 선택한 프로세스에 가장 적합한 가스를 선택할 수 있습니다. 또한 RF 바이어스 제어 장치 (bias control unit) 가 장착되어 에칭 프로세스에 최적의 이온 에너지를 제공합니다. TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K의 공정 챔버는 또한 조정 가능한 온도 및 압력 제어를 제공하여 프로세스 일관성을 보장합니다. 또한, 이 기계는 특허를받은 열 성장 기계 (thermal growth machine) 로 설계되어 단기 입자 생성을 최소화하고 높은 수준의 프로세스 일관성을 보장합니다. TELFORMULA ALD High-K는 또한 운영 용이성을 위한 자동 웨이퍼 로드 및 언로드 도구, 프로세스 시뮬레이션을위한 컴퓨터 기반 소프트웨어 패키지, 간편한 도구 업그레이드 및 확장성을 위한 모듈식 설계 (Modular Design) 를 제공합니다. 이 기계는 종합적이고 사용이 간편한 소프트웨어 (software package) 를 통해 다양한 기판과 함께 작동할 수 있도록 설계되었으며, 다양한 산업용 (industrial) 및 가전제품 (consumer electronics) 애플리케이션을 위한 이상적인 선택입니다. 고성능, 유연성 및 정확성을 제공하는 TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K는 고급 에칭 어플리케이션에 이상적인 선택입니다.