판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON TE 8500 #9394809
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ID: 9394809
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1994
Oxide etcher, 8"
Chuck type: ESC
RF Generator
ENT Shuttle
Aligner
ISO Module
Cable harness
No chillers
(2) Indexers:
881-621550-3 Control board
UDX5107 5-Phase driver
Handler arm:
BC10CA52CACDN AC Servo motor: 3000 rpm, 10 W
881-621560-2 Int conn board
893-020880-2 Control board
Prealignment:
(2) VEXTA PX244M-01A-C4 Stepping motors, 4 V, 1.2 A
808-621570-2 PA Control board
Load lock:
FGL11-X7 CKD Leak valve: 12 V, 8 W, 3.5-5 kg/cm²
Orifice: 2.2
(2) External motor driver: DBAP10CA52CS536 AC Servo driver
(2) Rotor motor driver: DBCP10CA52CDB AC Servo driver
(2) Load lock motor: BC10CA52CACDN AC Servo driver
(2) Board: 1881-022047-11 Vacuum control board
(3) C-2-FA-50-60-R3 Load lock cylinders
C-2-50-60-R Load lock cylinder
VAC Card rack:
Manostar switch: MS61L Differnetial pressure switch, 2-22 mmHg
E5AX-AH01 Temperature controller: 100-240 VAC, 15 VA, 50/60 Hz
808-62150-1 Gas I/F Board
Gas boxes:
Valve / Model / Gas / Flow rate
Pressure switch / FC-980C / - / -
MFC / FC-980C / N2 / 2 SLM
MFC / FC-980C / O2 / 100 SCCM
MFC / FC-980C / HE / 1 SLM
MFC / FC-980C / AR / 2 SLM
MFC / FC-980C / CF4 / 100 SCCM
MFC / FC-980C / CHF3 / 100 SCCM
MFC / FC-980C / HE / 20 SCCM
Regulator / SQ140-50-3P / - / -
1994 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500은 기판에서 물질을 선택적으로 제거하는 실리콘 제작 프로세스에 사용되는 에처 (또는 애셔) 입니다. 이것 은 물질 의 표면 특성 을 변경 시키기 위해 조종 된 "플라즈마 '혹은" 화합물' 에 기질 을 노출 시킴 으로써 달성 된다. TEL TE 8500은 플라즈마 에치, RIE (Reactive-ion etch) 및 두 가지 조합을 포함한 여러 에치 기술을 사용하여 표준 에치 응용 프로그램을 수행 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON TE 8500의 고급 웨이퍼 정렬 장치 (Advanced Wafer Alignment Equipment) 는 여러 기판에 걸쳐 뛰어난 패턴 유지 관리를 제공하며 프로세스 컨트롤러는 다운 스트림 프로세스 최적화를 지원합니다. TE 8500에는 프로세스 요구에 따라 여러 개의 포드가 사용됩니다. 각 포드에는 필요한 플라즈마를 생성하는 여러 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 에치 소스가 포함되어 있습니다. 이 챔버는 다양한 ECR 소스와 운영 매개변수 (operating parameter) 로 구성할 수 있으므로 다양한 프로세스 옵션을 제공합니다. TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500에는 RIE (Reactive-ion etching) 를위한 여러 소스도 있습니다. RIE 소스를 통해 사용자는 에치를 애플리케이션의 정확한 요구 사항에 맞게 조정할 수 있으므로 에치 선택성 (etch selectivity) 과 제어성 (controllability) 이 향상되고 처리량이 뛰어납니다. TEL TE 8500에는 etch 처리를 측정하고 분석하는 데 도움이 되는 내장 프로세스 모니터링 시스템이 있습니다. 이 단위는 실시간 프로세스 최적화 (real-time process optimization) 를 허용합니다. 여기서 프로세스 변수는 수율과 처리량을 최대화하기 위해 빠르고 정확하게 조정할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON TE 8500 (TOKYO TE 8500) 에는 에치 프로세스 동안 탁월한 정밀도 및 반복성을 제공하는 디지털 비디오 모니터링 머신도 있습니다. 비디오 모니터 (Video Monitor) 는 모든 웨이퍼가 동일한 에칭 (etching) 조건을 거치게 하여 배치 간의 변동성을 제거하고 결과의 재현성을 향상시킵니다. TE 8500은 반도체 에칭 어플리케이션을 위한 효과적이고 정확한 솔루션입니다. 고급 자동화 및 적응 가능한 프로세스 매개변수의 조합으로, TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500은 실리콘 제작 프로세스에 귀중한 도구입니다.
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