판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON TE 7000 #293667492

TEL/TOKYO ELECTRON TE 7000은 반도체 장치 생산에 사용되는 고속, 고정밀 에처/애셔입니다. 단일 및 다중 계층 프로세스 등 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 애플리케이션을 처리하도록 설계되었습니다. TEL TE 7000에는 최소 CD 변형으로 고정밀 이미지를 생성 할 수있는 단일 충전 전자 빔이 있습니다. 빔은 최소한의 표면 오염을 보장하고 리멜트 손상을 줄이기 위해 설계되었습니다. 이 장비는 또한 중앙 선택 (center selection) 과 반복 패턴 (repeat pattern) 과 같은 고급 색인 기능을 사용할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON TE 7000은 알루미늄, 실리콘, 솔더, PHG 및 WF 2를 포함한 많은 재료를 에칭 할 수 있습니다. 이 시스템에는 프로그래밍 가능한 이온 소스 전원 제어 장치 (ion source power control unit) 와 저해상도, 다중 레벨 및 최적화된 고가상도 프로세스를 포함한 여러 프로그래밍 가능한 프로세스가 있습니다. 습식 공정 에칭 및 애싱 작업도 수행 할 수 있습니다. TE 7000 은 웨이퍼 맵 (Wafer-Map) 측정기와 진공 척 (Vacuum Chuck) 을 비롯한 Wafer-Orientation 및 Pattern-Alignment 를 위한 첨단 기술을 갖추고 있으며, 이 두 가지 모두 에칭 및 애싱 프로세스 중 높은 정밀도를 보장합니다. 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스에는 챔버 내 온도를 조절하기위한 뒷면 난방 도구가 장착되어 있습니다. 또한, 자산에는 가공 샘플의 깨끗한 환경을 유지하기 위해 자동 대피 및 배기 모델 (Expaacation and Exhaust Model) 이 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON TE 7000은 다운타임을 최소화하고 생산성을 극대화하도록 설계되었습니다. 이 장비는 고급 안전 기능 (Advanced Safety Features) 과 직관적인 사용자 인터페이스 (User Interface) 로 설계되어 작동과 유지 관리가 용이합니다. 전반적으로 TEL TE 7000은 고급 반도체 장치 생산 프로세스를 위해 설계된 고속, 고정밀 에처/애셔입니다. 첨단 기능은 표면 오염과 재멜트 손상 (Reelt Damage) 이 최소화된 재료의 정확한 에칭 및 애싱 (Ashing) 을 보장하며, 프로그래밍 가능한 설정은 최적의 프로세스 제어를 보장합니다. 이 시스템은 안정적이고, 작동이 쉽고, 안전 기능으로 설계되어 생산성을 극대화합니다.