판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 #293820984

TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000은 TEL이 개발 한 고정밀 웨이퍼 에처입니다. 이 에처는 반도체 처리, MEMS, 디스플레이 처리, 광자 등 다양한 애플리케이션에 적합합니다. TEL TE5000은 고급 사진 보조 에칭과 결합 된 고급 플라즈마 에칭 기술을 갖추고 있습니다. 이 에처 (etcher) 는 매우 정확한 에칭 제어를 제공하며, 종횡비가 높으며, 다양한 에치 프로세스에 탁월한 균일성과 처리량을 제공합니다. 에처에는 정교한 챔버 디자인이 있으며, 최대 5 레벨의 에치 프로세스가 가능합니다. TOKYO ELECTRON TE-5000은 높은 처리량과 높은 공정 정확도를 제공하도록 설계되었습니다. 에처는 최대 200mm x 200mm 크기의 공정 챔버 크기와 최대 300mm 크기의 웨이퍼 크기를 수용하도록 설계되었습니다. 또한 wafer loading and unloading 프로세스는 자동으로 이루어져 배치를 효율적으로 처리할 수 있습니다. TE-5000에는 사용자에게 친숙한 고급 소프트웨어 인터페이스가 장착되어 있습니다. 인터페이스는 etch 프로세스를 쉽게 설정하고 제어합니다. 또한 사용자는 Gas Flow Rate, Pressure, Gas Mix Ratios 등 다양한 매개변수를 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 또한 사용자는 프로세스 중에 수집된 데이터를 사용하여 etch 프로세스를 분석, 최적화할 수 있습니다. TEL TE 5000은 탁월한 에치 균일성 (etch unifority) 및 프로세스 반복성을 제공하기 위해 최적화 된 챔버 구조로 설계되었습니다. 여기에는 RF 및 DC 소스가 모두 포함되어 있어 사용자에게 강력한 프로세스 변수 제어를 제공합니다. 이 에처의 다른 기능으로는 빠른 온도 제어 기능, 웨이퍼 매핑 기능 (옵션) 및 빠른 로봇 암 (robot arm) 설계가 있습니다. 전반적으로 TEL/TOKYO ELECTRON TE-5000은 고도로 안정적이고 사용자 친화적 인 웨이퍼 에처입니다. 이 에처는 다양한 반도체 처리, MEMS, 디스플레이 처리 및 광자 응용 프로그램에 적합한 선택입니다. 정교한 하드웨어와 소프트웨어를 통해 TEL TE-5000 은 뛰어난 반복 성능과 정확성으로 탁월한 etch 결과를 제공합니다.