판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC #9033639

TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC는 폴리 실리콘 및 기타 반도체 프로세스를 위해 특별히 설계된 고성능 에처/애셔입니다. 고도의 입자 제어 시스템 (Particle Control System) 과 레이저 기반 기술을 갖춘 완전 자동화된 장비로, 탁월한 생산성과 탁월한 표면 마무리를 제공합니다. TEL TE 5000 ATC는 다양한 기판 크기를 수용 할 수있는 여러 에치 탱크로 구성된 고급 멀티 챔버 (multi-chamber) 증착 장치를 갖추고 있습니다. 에치 (etch) 프로세스는 그래픽 제어를 통해 사용하기 쉬운 프로세스 레시피에 따라 조정할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC는 ATC (Automatic Thickness Control) 를 사용하여 특수 광학 기계를 통해 증착을 모니터링합니다. 이 기술은 사용자에게 필름 두께 및 프로세스 모니터링에 대한 실시간 피드백을 제공합니다. TE 5000 ATC는 또한 고급 온도 제어 (Advanced Temperature Control) 를 제공하므로 처리 중 기판의 가열과 냉각이 빠릅니다. 이를 통해 프로세스 일관성이 향상되고 증착 수익률이 향상됩니다. 이 장치에는 전자기 간섭을 줄이고 소음 수준을 최소화하는 EMC 소음 억제 (noise suppression) 기능이 장착되어 있습니다. 또한이 도구는 안정성이 높은 가스 에칭을위한 안전한 질소 공급을 통합합니다. 탁월한 에칭 성능 외에도 TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC에는 고속 모션 컨트롤을 제공하는 강력한 드라이브 자산도 있습니다. 동작 제어 모델 (motion control model) 을 사용하면 기판 위치를 정확하게 지정하여 여러 개의 챔버를 동시에 작동할 수 있으므로 프로세스 단계 간의 대기 시간이 크게 단축됩니다. TEL TE 5000 ATC는 또한 에치 탱크 (etch tank) 에서 더 작은 기판을 빠르고 정확하게 검색하는 기판 검색 장비를 갖추고 있습니다. TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC는 폴리 실리콘 및 기타 반도체 공정의 생산에 이상적인 고급 etcher/asher 장치입니다. 탁월한 성능과 탁월한 프로세스 제어 기능을 제공하며, 에칭 시간 (etching time) 을 단축합니다. 또한, 이 시스템은 안전한 질소 공급 및 고급 온도 제어를 제공하여 프로세스 일관성을 향상시키고, 더 조용한 작동을 위해 EMC (Electromagnetic Interference) 억제를 제공합니다. TE 5000 ATC 는 고속 드라이브 장치와 자동 기판 검색 장치 (Automatic Substrate Retrieval Machine) 를 통해 고품질 반도체 장치 생산을 위한 안정적이고 비용 효율적인 선택입니다.