판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras #9397360

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras는 반도체 제품 제조에 정밀 에칭 및 스트리핑 기능을 제공하도록 설계된 etcher/asher입니다. 높은 처리량, 완전자동 장비로, 고도 (Heavy-Duty) 제조 환경을 위한 안정적이고 견고한 설계를 갖추고 있습니다. 이 시스템은 두 개의 구획으로 구성되어 있습니다. 첫 번째 는 적재실 (loadlock chamber) 인데, 이 약실 은 원자로 약실 (reactor chamber) 을 함유 하는 데 사용 되는데 실제 로 식각 이 일어나는 곳 이다. 로드 메커니즘을 사용하면 기판을 빠르고 쉽게 로드하고 언로드할 수 있습니다. 기질은 에칭 용액 (etching solution) 에 침수 된 후, 특정 공정 펄스를 갖는 가스 혼합물에 동요하고 노출된다. 이 장치는 웨이퍼 타입 기판에서 최대 13 인치 크기의 샘플까지 대규모 기판을 가져올 수 있습니다. 두 번째 챔버 (chamber) 는 컨트롤러 스테이션 (controller station) 으로, 운영자는 etch 프로세스에 대한 다양한 프로세스 매개변수를 입력할 수 있습니다. 이 기계는 특정 제품 요구사항을 충족하도록 조정할 수 있는 다양한 프로세스 매개변수 (process parameter) 를 제공합니다. 매개변수 (parameters) 를 설정하여 시간, 온도, 가스 및 용액의 비율, 전압 처리 및 기타 매개변수를 제어하여 원하는 결과를 얻을 수 있습니다. TEL Tactras는 고급 도구 통합을 통해 높은 수준의 디지털 제어 기능을 제공합니다. 이더넷 (Ethernet) 접속을 통해 운영 모니터링 및 데이터 수집이 가능하며, 데이터베이스 자산은 정확한 데이터 기록을 제공합니다. 이 모델은 또한 다른 에처 (etcher) 및 애셔 (asher) 와 상호 작용하여 생산 과정을 더욱 간소화 할 수 있습니다. 이 장비는 UL 목록에 있으며 RoHs 디렉티브 (RoHs Directive) 를 준수하며 운영자에게 모범적인 수준의 안전 및 신뢰성을 제공합니다. TOKYO ELECTRON TACtrAS (TOKYO ELECTRON Tactras) 의 자동화 시스템은 제조 프로세스가 일관성이 높아 가장 복잡한 제품에 고품질 결과를 제공합니다. 이 장치는 탁월한 정밀 에칭/애싱 (etching/ashing) 기능을 제공하며 현대 제조의 엄격한 요구를 충족하도록 설계되었습니다.