판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras #9304349

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras는 반도체 웨이퍼 제조에 사용하도록 설계된 차세대 에처/애셔입니다. 이 솔루션은 에칭 (etching) 및 스트리핑 (stripping) 프로세스를 모두 수행할 수 있는 비용 효율적인 솔루션입니다. 이 기계는 고급 패턴 최적화 알고리즘 및 다중 도량형 기능을 사용하여 독점적 인 프로세스 제어 장비를 갖추고 있습니다. 이 머신에는 고속, 고성능 다이렉트 드라이브 모터가 장착되어 있어 위치의 정확성이 빠릅니다. 고속 나노 초 서보 시스템을 통해 TEL 택트라스 (TEL Tactras) 는 80nm까지 기능을 에치 할 수 있으므로 웨이퍼 표면의 초고속 패턴화가 가능합니다. TOKYO ELECTRON Tactras는 온도, 압력, 흐름 및 전력과 같은 프로세스 매개 변수를 제어하여 정확한 에칭 및 스트리핑을 달성합니다. 프로세스 안정성을 보장하기 위해 가스 흐름 모니터, 멀티 존 웨이퍼 온도 제어 장치 (multi-zone wafer temperon control unit) 및 다상 프로세스 플라즈마 제어 기능을 통합하여 이온화 된 가스 분포를 정확하게 제어합니다. 또한 Tactras 는 다중 모듈 (multi-module) 기능을 통해 특정 프로세스 요구 사항에 맞게 구성을 변경할 수 있습니다. 연구 개발을 위해 다양한 화학 물질을 지원하기 위해 개방형 아키텍처를 지원합니다. 또한 타사 소프트웨어, 검출기 및 장치의 통합도 지원합니다. TEL/TOKYO ELECTRON Tactras (TEL/TOKYO ELECTRON Tactras) 는 범용 전원 공급 장치, 듀얼 챔버 설계 및 정확하고 반복 가능한 프로세스 결과를 위해 안정적인 환경을 제공하는 고급 냉각 머신을 갖추고 있습니다. 5면 챔버 (five-side chamber) 설계는 웨이퍼를 배치하는 데 더 큰 유연성을 제공하여 여러 방향과 각도에서 샘플을 처리할 수 있습니다. TEL Tactras에는 빠르고 쉬운 프로세스 설정을 제공하는 직관적인 터치 스크린 제어 인터페이스도 포함되어 있습니다. 촉각 탐색 (tactile navigation) 을 통해 연산자는 etcher의 매개 변수를 쉽게 제어 할 수 있으며, 프로세스의 자세한 시각적 피드백을 제공합니다. 마지막으로 TOKYO ELECTRON Tactras는 긴 수명과 일관된 성능을 위해 설계되었습니다. 효율적인 발열 (heat dissipation) 툴을 통해 잦은 유지 보수 작업을 수행할 필요가 없습니다. 또한 다양한 웨이퍼 (wafer) 크기를 지원하며 정확한 프로세스 제어를 위한 보정 에셋이 내장되어 있습니다.