판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vigus #9252286

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus는 반도체 제조 공정에서 탁월한 에칭 성능과 처리량을 제공하는 에처/애셔입니다. TEL Tactras Vigus는 정확하고 일관된 웨이퍼 에칭을 제공하며 빠른 웨이퍼 처리 시간을 제공하는 독특한 ECE (dual-chamber electrochemical etching) 장비로 설계되었습니다. 이 다재다능한 에처는 SiC, SiGe, III/V 화합물 및 Cu와 같은 다양하고 복잡한 프로세스를 처리하는 데 이상적입니다. 이 에처는 독특한 듀얼 챔버 시스템으로 설계되었습니다. ECE 장치는 다양한 에칭 레시피 및 챔버 온도를 허용하여 최적의 에칭 결과를 보장합니다. 또한, 이 기계는 자동화된 프로세스를 통해 프로세스 최적화 및 프로세스 제어를 허용합니다. TOKYO ELECTRON Tactras Vigus는 매우 정확하고 일관된 에칭 결과를 제공합니다. 이 에처는 시간당 최대 25 마일 (635 미크론) 을 에칭 할 수 있으며, 이는 오늘날 시장에서 가장 빠른 속도 중 하나입니다. 또한, ECE 도구는 가장 어려운 에치 프로파일 (etch profile) 을 통해 웨이퍼 전체에서 우수한 에칭 균일성을 제공합니다. 이 에처는 사용자 친화적이며, 신뢰성이 높으며, 통합 안전 (Integrated Safety), 환경 관리 (Environmental Control) 등 다양한 기능을 제공합니다. 다른 기능으로는 실시간 모니터링 및 분석 도구, 청소 및 오염 해제를 위한 기본 제공 (autoclaving) 기능이 있습니다. 에치 챔버 (etch chamber) 는 또한 독립적인 로드 및 언로드 메커니즘을 제공하여 모든 프로세스에 대한 최대한의 안전성과 신뢰성을 보장합니다. Tactras Vigus (Tactras Vigus) 의 제어 자산은 직관적으로 설계되어 빠르고 쉬운 설정과 운영을 가능하게 합니다. TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus는 정확하고 신뢰할 수있는 에칭 프로세스가 필요한 모든 반도체 응용 분야에 적합한 선택입니다. 혁신적인 듀얼 챔버 (Dual-Chamber) 모델은 가장 효율적이고 유연하며, 다양한 에칭 요구 사항을 충족하도록 조정되었습니다. 이 에처 (etcher) 는 높은 처리율과 신뢰할 수 있는 프로세스 제어를 제공하여 운영 목표를 달성하는 데 도움이 됩니다.