판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vigus RK3 #293649553

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus RK3는 115nm (0.1 nm) 레벨의 고급 재료 처리를 위해 설계된 에처/애셔입니다. 화학이없는 플라즈마 기반 에칭 기술을 통해 초미세 재료에서 트렌치 (trench), 접촉 구멍 (contact holes) 또는 구멍을 통해 다양한 구조를 제작 할 수 있습니다. 이 첨단 에칭 기술은 반도체 업계의 에칭 프로세스 성능을 개선했습니다. TEL Tactras Vigus RK3 etcher/asher는 프로세스 제어를 위해 높은 정확도의 고해상도 APC (Active Process Compensation) 시스템을 갖추고 있습니다. 이 기능을 사용하면 안정적이고 반복 가능한 에칭 프로세스가 가능합니다. 또한, 활성 냉각 시스템이 내장되어 있어 처리 속도가 매우 효율적입니다. 공정 챔버 (process chamber) 는 플라즈마 처리 및 재료 로딩을 위해 별도의 영역으로 설계되었으며, 다양한 에칭 프로세스가 가능합니다. 또한 TOKYO ELECTRON Tactras Vigus RK3에는 확장 된 레시피 데이터베이스 및 기능 세트가 제공됩니다. 이 에처/애셔 (etcher/asher) 를 사용하면 사용자정의된 에칭 레시피를 생성할 수 있는 옵션으로 최적의 에칭 매개변수를 선택할 수 있습니다. 또한 프로세스 조건 데이터베이스 (process condition database) 를 사용하면 실시간 프로세스 결과를 저장, 분석, 표시할 수 있으며, 엔지니어가 프로세스를 최적화하고 제어할 수 있는 강력한 도구를 제공합니다. Tactras Vigus RK3 etcher/asher는 나노 스케일 (nanoscale) 수준에서 재료의 고해상도 에칭을위한 이상적인 솔루션으로, 상당한 비용 효율성과 성능 이점을 제공합니다. 가장 까다로운 에칭 (etching) 애플리케이션에서도 뛰어난 품질을 제공할 수 있으므로 반도체 장치 제조업체가 고수율, 결함이 없는 제품을 얻을 수 있습니다.