판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3 #9312750
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판매
ID: 9312750
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2017
Oxide etcher, 12"
Loader module 2.0
(3) Nitrogen purged load ports
(2) Chambers
(2) ATCC MP,120°
(16) Gas lines
(4) ATS 60 SE Chillers
(2) TEL / TOKYO ELECTRON Power racks
(2) EBARA ESV 300 Pumps
Advanced purge station
VTM / LLM Pump
Carrier ID reader for load ports
S-RDC
Syncronized pulse
FC2 Chamber
Large turbo pump (Non-heated)
C5K Endpoint detection system
Fast Flow Measurement System (FFMS)
SMIF
Handler
Gas:
Line / Gas
1 / H2
2, 13 / C4F8
3 / NF3
4 / CH4
5 / CH2F2
6 / CHF3
7, 16 / CF4
8, 14 / N2
9, 15 / O2
10 / CO
11 / CO2
12 / Ar
CE Marked
Does not include chillers
2017 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3는 반도체 제조 공정에 사용되는 에처/애셔입니다. 웨이퍼 제작의 배치 처리 응용 프로그램을 위해 설계된 단일 챔버 (single-chamber) 장비입니다. TEL Tactras Vigus LK3는 단일 런에서 최대 150 개의 웨이퍼를 처리 할 수있는 완전 자동화 된 에처입니다. 2 개의 독립적 인 플루오린화 수소산 (DHF) 공급원이 장착되어 원하는 웨이퍼 표면의 에치 깊이를 정확하게 제어합니다. TOKYO ELECTRON TACTRas Vigus LK3는 모든 웨이퍼에 걸쳐 최대 웨이퍼 로딩 안정성과 균일 한 처리 시간을 제공하기 위해 에처 챔버에 독특한 웨이퍼 홀더 디자인을 통합했습니다. 전용 컨베이어 시스템 및 프로세싱 챔버를 사용하여 에치 (etch) 정확도와 신뢰성을 향상시킵니다. 이 장치는 고급 프로세스 컨트롤러 (process controller) 와 매우 정교한 소프트웨어를 사용하여 높은 정확도를 제어할 수 있습니다. LK3는 실리콘, 알루미늄, 구리, 기타 재료와 같은 다양한 유형의 웨이퍼와 호환됩니다. 또한, 기계는 다중 에칭 레시피를 지원할 수 있으므로 빠른 변경 (changeover) 및 프로세스 최적화 (process optimization) 를 허용합니다. Tactras Vigus LK3 (Tactras Vigus LK3) 는 수년 동안 사용되어 장수와 신뢰성을 보장하기 위해 견고한 기계 구조로 설계되었습니다. 내구성 주택은 부식에 강하며, 용매 및 화학 청소제에 노출되지 않도록 설계되었습니다. 이 도구에는 직관적인 사용자 친화적 터치스크린 인터페이스 (TouchScreen Interface) 가 장착되어 있어 운영자가 빠르고 쉽게 Etch 매개변수를 보고 조정할 수 있습니다. 또한 고급 사용자 인터페이스 (Advanced User Interface) 는 원격 진단 및 실시간 데이터 로깅 기능을 갖춘 강력한 서비스 및 유지 관리 기능도 제공합니다. 이 자산은 안전성을 염두에 두고 설계되었으며, 운영자 안전을 위해 다양한 수준의 보호를 제공합니다. TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3 etcher는 NFPA 79 및 CENELEC EN 60079-11을 포함한 모든 국제 안전 표준을 충족하도록 설계되었습니다. 또한 별도의 Interlock 모델, Emergency Stop 버튼, Noise Limiter 등 다양한 안전 기능을 제공합니다. TEL Tactras Vigus LK3는 기술자가 다양한 유형의 웨이퍼를 정확하고 정확하게 에칭하는 데 사용할 수 있습니다. 많은 반도체 관련 응용 분야에 이상적입니다.
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