판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3+ #293649539

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3 + 는 광범위한 반도체 웨이퍼 처리 응용 분야를 위해 설계된 고급 에처/애셔입니다. 이 정교한 에처 (etcher) 는 다방향 재순환 가열 처리 챔버를 특징으로하여 단일 프로세스 단계에서 여러 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 경쟁 에칭 시스템과 비교하여 Tactras Vigus LK3 + 는 최대 30% 향상된 에치 레이트와 치수 제어를 제공합니다. TEL Tactras Vigus LK3 + 는 고급 자동화 장비로 구성되어 처리 시간 정확성과 재생성을 향상시킵니다. 이 도구는 또한 견고한 자동 청소 시스템 (auto-cleaning system) 을 갖추고 있어 운영자가 총 수동 클리닝 양을 줄이고 장치 안정성을 향상시킬 수 있습니다. 이 기계는 자동 센서 교정 (Automatic sensor calibration) 및 다양한 프로세스 모니터링 (Process Monitoration) 기능을 제공하여 사용자에게 프로세스 제어를 강화합니다. TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3 + 의 사용자 친화적 인 GUI (Graphical User Interface) 는 그래픽 디스플레이와 프로세스 매개 변수를 쉽게 이해하여 에칭 프로세스를 단순화합니다. 이 GUI를 사용하면 프로세스 조건, 에치 레시피, 문제 해결 등을 실시간으로 쉽게 설정할 수 있습니다. 또한 데이터 수집 모드 (Data Collection Mode) 를 사용하면 적절한 데이터를 액세스하고 저장할 수 있으므로 프로세스 관리 능력이 향상됩니다. Tactras Vigus LK3 + 는 스펙트럼 유연성을 제공하여 다양한 기판 재료에 대한 에칭 속도 및 프로세스 매개 변수를 사용자 정의할 수 있습니다. 다방향 재순환 가열 처리 챔버 (multi-directional recirculating heated processing chamber) 로 인해, 웨이퍼는 에칭 과정 전체에서 동일한 압력과 온도에 노출됩니다. 이로 인해 에지 균일 성 (edge unifority) 과 스트레스 수준 (stress level) 이 향상됩니다. 또한, 낮은 입자 생성 도구는 뛰어난 웨이퍼 품질을 보장합니다. TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3 + 는 안정적이고 일관된 에칭 자산을 찾는 사람들에게 이상적인 선택입니다. 이 견고한 기계에는 향상된 에치 레이트와 치수 제어, 정교한 자동화, 프로세스 모니터링 기능, 스펙트럼 유연성, 낮은 입자 생성 등 다양한 혁신적인 기능이 포함되어 있습니다. 소규모 IC 설계 회사이든 대규모 제조업체이든, TEL Tactras Vigus LK3 + 는 반도체 웨이퍼 처리 요구에 적합한 솔루션입니다.