판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3 #293615961

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3는 뛰어난 정확성, 프로세스 제어 및 사용자 친화적 인 작동을 제공하도록 설계된 에처/애셔입니다. 전체 장비 에처 (etcher) 이며 실리콘 (silicon), 금속 필름 (metal film) 과 같은 다양한 필름 및 기판을 처리하는 데 사용될 수 있습니다. 이 에처에는 최신 프로세스 제어 기술 (예: ION 소스 제어, 스테이지 포지셔닝 정확도, 자동 프로그래머 도구) 이 장착되어 있습니다. 식각 재료 (etched material) 의 뛰어난 정확성과 균일성을 제공하면서 높은 반복성과 처리량을 제공하도록 설계되었습니다. TEL Tactras Vesta NV3에는 자동 매개 변수 조정 및 제어를 제공하는 효과적인 기술이 있습니다. ION 소스 제어 시스템을 사용하면 1 ~ 50 호 해상도의 에칭 프로세스를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이온 빔 (ION beam) 은 에칭하기 위해 원하는 영역을 목표로 변조되며, 처리 중인 재료에 대한 흉터가 거의 없음 (scarring) 이 없습니다. 또한 ION 빔은 사용자에게 에찬트 (etchant) 및 에칭 속도 (etching) 수준을 조정할 수 있는 유연성을 제공합니다. TOKYO ELECTRON TACTRAS Vesta NV3에는 최대 5-10 나노 미터의 정확한 스테이지 영역이 있으므로 정확한 에치 패턴 정렬이 가능합니다. 또한, 자동 블랭커 제어 (auto blanker control) 는 사용자에게 스테이지 위치를 제자리에서 잠그고 불필요한 스테이지 이동으로 인한 표면 손상을 방지하는 옵션을 제공합니다. 이 기능은 에칭 (etching) 작업을 정확하게 제어할 수 있는 방법을 찾는 사람들에게 유용합니다. Tactras Vesta NV3 (Tactras Vesta NV3) 에는 직관적 인 프로그래밍 가능한 유닛이 장착되어 있어 특정 고객 요구에 맞게 에치 작업을 사용자 정의하고 프로그래밍할 수 있습니다. 프로그래밍 기능을 사용하면 자동 프로시저 제어 (procedure control) 및 기타 작업 설정을 통해 보다 효율적인 에칭 결과를 얻을 수 있습니다. 이 기능은 반도체와 같은 에칭 소재를 정확하게 제어해야 하는 대규모 에칭 (etching) 프로젝트에 특히 중요합니다. 품질 및 일관성을 유지하기 위해 TEL/TOKYO ELECTRON TACtras Vesta NV3 (Tactras Vesta NV3) 는 내구성이 뛰어난 스테인리스 스틸 (Stainless Steel) 로 만들어졌으며, 시스템 보호 기능이 내장되어 있어 고전압 및 온도 응용 프로그램으로 작동 할 때 최고의 보호 기능을 제공합니다. TEL Tactras Vesta NV3는 최소한의 유지 보수로 품질 결과를 보장하도록 설계되었습니다. 결론적으로, TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3는 뛰어난 정확성, 프로세스 제어 및 사용자 친화적 인 작동을 제공하기 위해 설계된 완전한 기계 에처 및 애셔입니다. 이 제품은 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 작업에 이상적인 도구이며 대규모 및 소규모 프로젝트에 이상적입니다. 자동 매개변수 조정 (automatic parameter adjustment) 및 프로그래머블 (programmable) 기능을 사용하면 빠른 처리량으로 원하는 에칭 정확도를 보장할 수 있습니다.