판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3 #293603576

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3는 신뢰할 수 있고, 효율적이며, 정확한 플라즈마 에처/애셔로 다양한 응용 분야에 사용됩니다. TEL Tactras Vesta NV3는 고온, 고전기장 및 고에너지 이온을 사용하는 'Plasma Enhanced Etching' 기술을 사용하여 작동합니다. 이 에칭 방법은 정확한 패턴에 대한 정확한 에칭 (etching) 과 광범위한 딥 에칭/애싱 (eching/ashing) 을 가능하게합니다. TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3의 인터페이스는 사용자 친화적이며, 에칭 매개 변수를 정확하고 쉽게 제어 할 수 있습니다. 또한 직관적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 를 통해 운영 주기를 단축하고 생산성을 향상시킬 수 있습니다. 에처/애셔 (etcher/asher) 는 200mm에서 300mm 사이의 여러 기판 크기를 지원하므로 다양한 반도체 생산 프로세스에 이상적입니다. 또한 NV3는 고르지 않은 난방을 줄이고 에칭을 균일하게 돕는 고급 용광로 (advanced furnace) 모듈을 갖추고 있습니다. 또한 "펌프 '장치 는" 가스' 소비량 을 줄여 식각 공정 과 관련 된 비용 을 줄여주는 "펌프 '장치 를 갖추고 있다. NV3에는 에칭 표면에 가스 분포를 정확하게 기록 할 수있는 SEGARD (Super Etching Gas Analysis Data Recording) 가 장착되어 있습니다. 이것은 에칭 패턴의 정확성을 향상시키고, 에칭 프로세스의 균일성을 확인하는 데 도움이됩니다. NV3에서 제공하는 기능 중 일부에는 자동 기판 온도 제어, 자동 콘센트 온도 제어 및 자동 트렌치 형성이 포함됩니다. 이러한 기능은 기질 온도를 일정하게 유지하는 데 도움이 되며, 또한 프로세스 균일성 (process unifority) 을 향상시키는 데 도움이 되므로 중요합니다. 또한 NV3 는 최대 10 개의 웨이퍼를 동시에 에칭하여 생산성과 처리량을 대폭 높일 수 있습니다. 결론적으로, Tactras Vesta NV3 플라즈마 에처/애셔는 다양한 생산 공정에 사용되는 고정밀도, 신뢰할 수있는 에처/애셔입니다. 이러한 기능을 사용하면 다양한 기판 크기에 균일 한 에칭 (etching), 빠른 처리량, 뛰어난 균일성이 가능합니다.