판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON T-3055SS #9211146

TEL/TOKYO ELECTRON T-3055SS는 완전자동 에처이며 약간 복잡한 프로세스를 처리 할 수 있습니다. 반응성 이온 에칭 및 애셔 장비로서 TEL T-3055SS는 완전한 에치 및 애싱 솔루션을 제공합니다. 에칭 (etching) 과 애싱 (ashing) 뿐만 아니라, 시스템은 박막 공정의 증착기로도 사용될 수 있습니다. TOKYO ELECTRON T-3055SS는 정확하고 정확한 결과가 필요한 생산 및 프로세스 응용 프로그램을 위해 설계되었습니다. 처리량이 높고 빠른 주기 시간이 있으며, 로드 용량은 실행당 최대 25 웨이퍼 (wafer) 입니다. 이 장치는 에칭을 위해 RF 및 DC 혼합 에너지원과 ashing을 위해 고온 anneal 단계를 모두 사용합니다. 또한 프로세스 매개변수를 정확하게 제어하기위한 가변 질량 흐름 활성화 기계가 포함되어 있습니다. T-3055SS는 고급 소프트웨어 및 하드웨어 구성 요소를 사용하여 반응성 이온 에칭 (reactive ion etching) 및 애싱 (ashing) 작업을 안정적으로 수행할 수 있습니다. 컴퓨터 제어 도구에는 사용자 친화적 인 인터페이스가 있으며, 빠른 입력 (entry) 과 간단한 작동을 위해 그래픽 디스플레이가 제공됩니다. 또한 광범위한 진단 도구를 사용하여 프로세스를 문제 해결하고 세밀하게 조정할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON T-3055SS는 다양한 안전 기능을 사용하여 사용자를 보호하고 장비 손상을 방지합니다. 인력과 장비를 보호하기 위해 안전 인터 록 (Safety Interlock) 을 사용하며, RF 및 DC 장비 운영에 관한 최신 규정의 안전 요건을 충족하도록 설계되었습니다. 이 에셋에는 전체 프로세스 제어를 위한 온라인 및 오프라인 내부 진단 기능이 모두 포함되어 있습니다. TEL T-3055SS 는 광범위한 프로세스 제어 기능을 제공하여, 여러 디바이스 유형에 대한 모든 프로세스 매개 변수를 제어할 수 있습니다. 유연한 스케줄 지정 기능이 제공되므로, 사용자는 다양한 에칭 (etching) 및 어싱 (ashing) 작업에 대해 여러 매개변수를 쉽게 프로그래밍할 수 있습니다. 또한 자동 웨이퍼 전송 모델 (Automatic Wafer Transfer Model) 이 포함되어 있어 추가 장비 없이 여러 웨이퍼를 하나의 챔버에서 다른 웨이퍼로 이동할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON T-3055SS는 신뢰할 수 있고 매우 정밀한 에처 및 애셔 장비입니다. 사용자 친화적 인터페이스와 광범위한 프로세스 제어 (process control) 기능을 통해 반도체 업계의 다양한 애플리케이션에 적합합니다. 광범위한 안전 기능과 광범위한 진단 기능을 갖춘 T-3055SS는 안정적이고 정확한 결과를 제공합니다.