판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ME-450II #293594208

TEL/TOKYO ELECTRON ME-450II는 고도의 최첨단 에처/애셔입니다. 이 제품은 텔 (TEL) 에서 개발 및 제조되며 업계에서 다양한 응용 프로그램과 용도를 갖추고 있습니다. TEL ME-450II (Direct Plasma Etching) 장비는 멀티 챔버 디자인이 특징이며, 사용자가 패턴화 및 에칭을위한 안정적이고 일관된 환경을 제공합니다. 이 시스템의 챔버 (chamber) 는 전자 산업에서 가장 일반적으로 사용되는 기판 인 실리콘 (silicon) 의 에칭에 최적화되어 있습니다. 유리와 석영과 같은 다른 재료에도 적합합니다. TOKYO ELECTRON ME-450II는 최적화된 Multi-Wavelength Plasma Source를 사용하여 높은 식각 속도, 큰 프로세스 창 및 탁월한 선택성을 제공합니다. 이 장치의 고 플라즈마 밀도, 저기질 충전, 우수한 지연 제어 (lag control) 는 다양한 기판 및 필름에서 뛰어난 에칭 성능을 제공합니다. 기계의 챔버 설계는 여러 소스 및 에칭 가스를 사용하여 프로세스 유연성을 극대화합니다. ME-450II는 RIE (reactive ion etching) 를 포함한 다양한 공정 흐름에 대해 고정 음극, 원통형 음극 및 평면 전극이 표준으로 제공됩니다. 평면 전극은 우수한 패턴 충실도를 위해 기판에 ac 또는 pulsed dc 전력을 패딩하는 데 사용될 수있다. 또한, 이 도구의 자동 가스 전달 및 제어는 균일 한 가스 사용 및 총 프로세스 제어를 가능하게합니다. TEL/TOKYO ELECTRON ME-450II에는 다양한 기타 도구와 기능이 포함되어 있어 우수한 프로세스 성능과 수율을 보장합니다. 이러한 기능의 예로는 자동 기판 포지셔너 및 낮은 반사 기판 홀더가 있습니다. 또한 TEL ME-450II는 내구성이 뛰어난 세라믹 엔지니어링 재료를 사용하여 다운타임을 최소화하고 유지 관리를 최적화합니다. TOKYO ELECTRON ME-450II (TOKYO ELECTRON ME-450II) 에는 다양한 경보 및 안전 기능이 장착되어 있어 인력 및 프로세스 안정성을 보장합니다. 실시간 진단을 통해 사용자는 자산을 중지하지 않고도 신속하게 프로세스를 모니터링하고 수정할 수 있습니다 (영문). ME-450II (ME-450II) 는 기존 프로덕션 환경에 쉽게 통합할 수 있도록 설계되었으며, 다양한 기판 및 필름과 호환되므로 비교적 빠르고 사용하기 쉬운 프로덕션 모델을 만들 수 있습니다. 요약하면, 고유 한 에칭 소스와 가스 흐름 제어의 조합과 함께 엔지니어링 및 소프트웨어 발전은 TEL/TOKYO ELECTRON ME-450II를 패턴화 및 에칭에 이상적인 도구로 만듭니다. 멀티 챔버 챔버 (multi-chamber) 설계 및 관련 프로세스 도구와 결합된 고급 기능을 통해 반복 가능하고, 안정적이며, 고품질 결과를 얻을 수 있습니다.