판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730 #9398831

TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730은 특히 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 응용 프로그램을 위해 설계된 고급 에처입니다. 이 에처 는 "에칭 '과정 에 사용 되는" 플루오린' 과 유황 전구체 를 정밀 하게 제어 해야 하는 작용 에 적합 하다. 장비에는 가스 박스, 서로 연결된 2 개의 쿼츠 챔버, 로드 락 챔버 등이 있습니다. 또한 웨이퍼 트랜스퍼 (wafer transfer) 가있는 로드 락 (load lock) 과 고 진공 펌핑 패키지 (high-vacuum pumping package) 가 포함되어 6mTorr 미만의 기본 압력을 달성 할 수 있습니다. TEL MB2-730에는 고효율, 저소음 플라즈마 다중 채널 구성을 갖춘 TEL 독점 APS (Advanced Plasma Source) 가 장착되어 있습니다. 이 "시스템 '은 정밀 한 증착" 파라미터' 를 정밀 히 제어 하여 최고 품질 의 산물 을 산출 한다. 또한 재생성과 균일 한 에칭 프로세스를 위해 설계되었습니다. 실리콘 웨이퍼, 박막, 무정형 유리 등 다양한 기판을 식각 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON MB2-730에는 하이브리드 가스 제어 장치 (가스 믹싱 박스, 믹싱 챔버 및 터보 펌프 패키지 포함) 가 사용됩니다. 이 구성을 사용하면 에칭 가스의 정확한 구성을 정의할 수 있는 유연성 (Flexibility) 을 통해 에칭 (Etching) 프로세스를 정확하게 조정할 수 있습니다. 이 기계에는 또한 QCM (Quartz Crystal Monitor) 이 포함되어 있어 증착 과정을 정확하게 제어 할 수 있습니다. MB2-730은 안정적이고 장기적인 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 이 툴은 자가 진단 (Self Diagnostic) 기능을 통해 유지 보수 시간과 노력을 절감하기 위한 자동화된 클리닝 주기 (Automated Cleaning Cycle) 뿐만 아니라 잠재적 유지 관리 요구를 예측할 수 있습니다. 또한, 자산에는 운영자 안전을 보장하기 위해 과압 경보 (over-pressure alarm) 및 온도 제한과 같은 안전 기능이 포함됩니다. 결론적으로, TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730은 PECVD 프로세스에 사용되는 플루오린 및 황 전구체에 대한 정확한 제어가 필요한 운영에 적합한 고급 에처입니다. TOKYO ELECTRON 독점 APS (Advanced Plasma Source) 와 하이브리드 가스 제어 모델 (Hybrid Gas Control Model) 을 장착하여 필요에 따라 에칭 프로세스를 정확하게 조정할 수있는 유연성을 제공합니다. TEL MB2-730에는 과압 경보 (over-pressure alarm) 및 온도 제한 (temperature limits) 과 같은 안전 기능과 자체 진단 장비가 포함되어 있어 응용프로그램에 안정적이고 안전한 옵션입니다.