판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730 #293643024

TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730
ID: 293643024
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2000
CVD System, 8" 2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730은 반도체 및 기타 정밀 마이크로 일렉트로닉스 시장에서 사용하도록 설계된 고성능 에처/애셔입니다. 이 기계는 세계 최고의 반도체 제작 및 공정 제어 기술 공급 업체 중 하나 인 텔 (TEL) 에서 제조합니다. TEL MB2-730은 최첨단 에치 및 애셔 기술을 사용하며, 이는 반응성이 높은 화합물 및 플라즈마 기반 에칭 기법을 사용합니다. 이렇게 하면 다양한 응용 프로그램에서 사용할 수 있도록 정밀하고 세밀하게 조정된 에치 (etch) 패턴을 생성할 수 있습니다. 이 기계는 직관적이고, 사용자 친화적이며, 디지털 제어 장비를 갖추고 있어 에치 (etch) 와 애셔 (asher) 출력을 정확하게 제어 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON MB2-730은 또한 독성 가스 또는 미립자 배출의 위험없이 빠르고 안전한 유지 보수 기능을 제공합니다. MB2-730의 에치 및 애셔 공정은 레이저, 전자 빔 (Electron Beam) 및 ICP (Inductively Coupled Plasma) 의 조합으로 이루어져 에치 공정의 정확한 제어가 가능합니다. 에칭 챔버 주변의 열 담요 (thermal blanket) 는 에칭 프로세스 전반에 걸쳐 균일 한 온도를 보장하는 반면, 레이저 구동 셔터 (laser-driven shutter) 는 시스템의 안전하고 효율적인 작동을 보장합니다. TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730의 ICP 소스 및 RF 제너레이터에는 첨단 온도 조절 게이지가 장착되어 있어 최대 300 ° C의 정확한 온도 측정이 가능합니다. 이를 통해 프로세스 전반에 걸쳐 온도 일관성을 보장하고 에치 레이트 (etch rate) 를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 외부 가스 제어 장치를 사용하면 에치 가스 농도 및 속도를 쉽게 조정할 수 있습니다. 또한 TEL MB2-730 은 고급 손상 보호 및 프로세스 추적 기능을 제공하여 안정성과 정확성을 더욱 향상시킵니다. Etch Chamber 및 Process Environment의 뛰어난 정화 및 보호를 위한 HEPA Cleanroom 필터 (옵션) 가 있습니다. 고급 추적 (Advanced Traceability) 시스템을 사용하면 완료된 각 Etch 프로세스의 상태를 검토하고 확인할 수 있습니다. 또한, TOKYO ELECTRON MB2-730에는 고해상도 모니터와 고급 제어 인터페이스가 장착되어 있어 에칭 프로세스를 정확하게 모니터링할 수 있습니다. 모니터 (monitor) 는 또한 시스템 작동에 대한 정보를 쉽게 액세스할 수 있으며, 프로세스 중에 발생할 수 있는 오류를 신속하게 파악하고 해결하는 데 사용될 수 있습니다. 요약하면, MB2-730은 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 산업에서 사용하도록 설계된 다재다능한 etcher/asher입니다. 첨단 에칭 기술, 정확한 온도 조절, 사용자 친화적 디지털 제어 도구, 고급 손상 보호 (Advanced Damage Protection) 및 프로세스 추적 기능을 활용하여 마이크로 일렉트로닉스 부품의 정확한 에칭 및 재싱에 이상적인 솔루션입니다.
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