판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mainframe for TELIUS #293743781

TEL/TOKYO ELECTRON Mainframe for TELIUS는 고급 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 고성능 에처 및 애셔 장비입니다. 이 혁신적인 도구는 정밀도, 효율성, 신뢰성을 결합하여 복잡한 집적회로의 제작을 위한 선도적인 반도체 제조업체의 까다로운 요구 사항을 충족시킵니다 (영문). TEL Mainframe for TELIUS는 고급 기술과 재료를 통합하여 정확하고 균일한 에칭 및 애싱 프로세스를 구현하는 최첨단 설계를 제공합니다. 이 시스템의 메인프레임 (mainframe) 은 내구성, 안정성, 화학적 부식에 대한 내성을 보장하는 고품질 재료를 사용하여 구성되며, 이는 청정실 환경에 적합합니다. TELIUS 장치의 메인프레임 (mainframe) 에는 고정밀 에칭 및 애싱 (ashing) 결과를 달성하는 데 필수적인 다양한 주요 구성 요소가 있습니다. 이러한 구성 요소에는 고출력 RF 플라즈마 소스, 가스 전달 기계, 웨이퍼 처리 메커니즘, 프로세스 모니터링 센서 및 고급 제어 소프트웨어가 포함됩니다. RF 플라즈마 소스는 극도로 정밀하게 웨이퍼 표면을 에치 (etch) 하거나 청소하는 데 사용되는 반응성이 높은 플라즈마를 생성합니다. 가스 전달 도구 (gas delivery tool) 는 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 응용 분야에 다양한 공정 가스를 제공하여 다양한 유형의 재료 처리에 유연성과 다양성을 보장합니다. TELIUS 에셋의 웨이퍼 처리 (wafer handling) 메커니즘은 다양한 웨이퍼 크기와 모양을 수용하여 단일 웨이퍼 (single wafer) 를 효율적으로 처리하거나 여러 웨이퍼를 일괄 처리할 수 있도록 설계되었습니다. 이 모델은 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스 전반에 걸쳐 정확한 웨이퍼 포지셔닝 및 이동을 보장하는 고급 로봇 및 자동화 기능을 갖추고 있습니다. 이 자동화된 처리 장비는 웨이퍼 손상 (wafer damage) 과 오염 (contamination) 의 위험을 최소화하여 높은 공정 수익률과 일관성을 제공합니다. TOKYO ELECTRON MAINUS에는 온도, 압력, 가스 흐름 속도, 플라즈마 특성 등의 프로세스 매개 변수에 대한 실시간 피드백을 제공하는 포괄적인 프로세스 모니터링 센서가 장착되어 있습니다. 이 실시간 모니터링을 통해 운영자는 프로세스 조건을 최적화하고 실시간 (real-time) 조정을 통해 최적의 프로세스 성능 및 제품 품질을 보장할 수 있습니다. 이 시스템의 고급 제어 소프트웨어 (Advanced Control Software) 는 프로세스 레시피 구성, 프로세스 매개변수 모니터링, 프로세스 데이터 분석 등을 실시간으로 수행하는 편리한 인터페이스입니다. 텔리우스 (TELIUS) 장치는 첨단 처리 기능 외에도 운영자 (operator) 와 운영 환경 (environment) 을 보호하기 위한 혁신적인 안전 기능을 갖추고 있습니다. 이 기계에는 다양한 안전 인터 록 (Safety Interlock), 가스 누출 탐지 시스템 (Gas Leak Detection System) 및 비상 셧다운 절차가 장착되어 있어 사고를 예방하고 항상 안전한 작동을 보장합니다. 전반적으로, TELIUS 용 메인프레임 (Mainframe for TELIUS) 은 최첨단 에처 및 애셔 툴로서 반도체 제조 어플리케이션에 탁월한 성능, 정확성 및 신뢰성을 제공합니다. 고급 기술, 견고한 설계, 종합적인 안전 기능을 갖춘 텔리우스 자산 (TELIUS asset) 은 고급 반도체 장치의 고품질, 고수율 생산을 달성하려는 반도체 제조업체에 필수적인 도구입니다.