판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Indy Plus #9384128

TEL / TOKYO ELECTRON Indy Plus
ID: 9384128
웨이퍼 크기: 12"
Furnace, 12" Process: ALD High-K.
TEL/TOKYO ELECTRON Indy Plus는 반도체 산업의 고정밀 처리 요구를 위해 개발 된 고급 에칭 도구입니다. 높은 정확도와 반복성을 가진 레이어 에칭 (etching), 애셔링 (ashering) 및 평면 (planarizing) 에 사용할 수 있습니다. 이 도구에는 뛰어난 직업 균일성을 위해 다중 구역 챔버 디자인이 포함되어 있습니다. 7 개의 별개의 구역이 있으며, 각각 다른 압력, 온도, 조성을 견딜 수 있으며, 에칭 프로세스 과정에서 균일 한 결과를 제공 할 수 있습니다. 산화물 필름, 금속, 폴리 실리콘, 저항 등 다양한 재료를 에칭 할 수 있습니다. 텔 인디플러스 (TEL INDYPLUS) 는 에칭 프로세스의 균일성과 신뢰성을 향상시키는 고급 가스 에치 (Gas Etch) 기술을 갖추고 있습니다. 이 가스 에치 프로세스 (gas etch process) 는 가스의 흐름을 조작하여 처리량을 증가시키는 에치 프로파일 균일성 (etch profile unifority) 을 향상시키고 얕은 트렌치 및 기타 기능의 에치 깊이를 향상시킵니다. 도쿄 일렉트로닉 인디 플러스 (TOKYO ELECTRON INDY PLUS) 는 또한 다양한 에치 레시피를 제공하며, 높은 신뢰성과 내구성으로 인해 소유 비용이 낮게 유지됩니다. 프로그래밍 가능한 논리 제어 장치 (logic control unit) 는 정확한 프로세스 제어를 보장하며 도구가 사용자 친화적인지 확인합니다. 컨트롤러는 다양한 통신 프로토콜과 호환되므로 기존 플랜트 MIS (Plant MIS) 시스템과 쉽게 통합되도록 설계되었습니다. 웹 기반 인터페이스를 통해 에치 (etch) 프로세스를 모니터링할 수 있는 외부 원격 컴퓨터 인터페이스를 사용할 수 있습니다. 사용자는 또한 안전한 웹 서버에 액세스하여 프로세스 관리 및 분석을 수행할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 중요한 에치 (etch) 데이터를 활용하여 프로세스 최적화를 위한 처리 능력을 분석하고 이해할 수 있습니다. 이 도구는 에지 링 (edge ring) 기술을 사용하여 에처 (etcher) 처리량을 늘리고 프로세스 주기 시간을 줄입니다. 이것 은 "알루미늄 '산화물 을 사용 하여 전극, 유전체 및 금속 사이 의 원통형 연결 을 형성 함 으로써 작용 한다. 알루미늄 산화물 에지 링 (aluminum oxide edge ring) 은 가스를 에칭하고 에칭에 저항하여 에지 제어와 더 깊은 에치를 허용합니다. TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS는 또한 큰 복잡한 구조를 분석하고 처리하기위한 고급 기술을 제공합니다. 이 기술을 통해 사용자는 더 나은 균일성과 에칭 (etching) 프로세스를 제어하여 보다 정확하게 에칭할 수 있습니다. 이 도구는 유지보수 친화적이며, 정밀 에칭을 위한 최신 최첨단 기술을 제공합니다.
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