판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293763486
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ID: 293763486
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2016
Vertical furnace, 12"
Process: Pyro
Air valve: CKD
VOS-56-101PT Heater
Process chamber
MFC, MFM: AERA
MAIN / APC: CKD
Gases: HCL, H2, O2, N2
Load lock system
Storage
4-Color signal tower
Carrier transfer
Load port: Side FFU
FIMS Port
Wafer transfer
Boat elevator
Auto shutter
Manufold scavenger
(2) Boat transfers
Boat stage
Manifold
Utility box:
WAVES Controller
GFC Display
Operation panel
Data I/O
Hardware switch
Gas unit
Cooling unit
APC controller
Temperature controller
Vacuum line
Power box:
EMO Unit
Control board
Hardware switch
Transformer
SCR Unit with controller
N2 Purge unit
RF Power
Rapid cooling unit
Pump box
Gas subsystem:
Gas supply unit
Exhaust
Vacuum line
Operating system: Linux
Power supply: 120/480 V, 3 Phase, Single phase
2016 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M은 주요 반도체 장비 제조업체 인 TEL Limited (TOKYO ELECTRON) 가 설계하고 생산 한 에처/애셔입니다. etcher/asher 는 고급 디바이스 구성의 복잡한 요구 사항을 처리할 수 있는 고급 기능을 제공합니다. TEL INDY PLUS B-M은 반도체 장치의 성장과 성능을 최적화하기 위해 설계된 ICP (inductively coupled plasma) etcher/asher입니다. 업계 표준, 고정밀 장치 생산을 위한 정확하고 고성능 ICP 소스가 장착되어 있습니다. ICP 소스는 높은 에칭 속도에서도 강렬하고 균일 한 에칭 프로세스를 가능하게합니다. 에처/애셔는 자동 플라즈마 발전기, 공정 챔버, 챔버 탑 제어 장비, 진공 시스템, 반응성 가스 전달 장치, 펌프 및 컨트롤러 구성 요소를 갖추고 있습니다. 진공기는 성능, 신뢰성 향상을 위한 듀얼 펌프 (dual-pump) 구성과 진공 품질을 최적화하는 가스 확산 장벽 (gas diffusion barrier) 및 진공 센서 (vacuum sensor) 를 갖추고 있습니다. 반응성 가스 전달 도구 (reactive gas delivery tool) 는 정확한 에칭 작업을 위해 에칭 조건을 정확하게 제어합니다. 이 공정 챔버 (process chamber) 는 반응성 가스의 정확한 도입을 위해 여러 개의 입구 포트를 지원하며, 프로세스 균일성을 향상시키기 위해 다양한 비 균일성 보상 기능이 있습니다. 챔버 탑에는 플라즈마 노출 중 안전성을 높이기 위해 3 단계 자동 차단 밸브가 장착되어 있습니다. TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M에는 웨이퍼 배치 로딩, 냉각, 축소, 레이어 전송 및 끝점 제어 (EPC) 등 다양한 고급 프로세스 옵션이 제공됩니다. EPC 기능을 사용하면 프로세스 엔드포인트를 정확하게 제어할 수 있으며, 디바이스 엔지니어가 디바이스 성능을 최적화할 수 있습니다. 웨이퍼 배치 로드 에셋은 최대 4개의 웨이퍼를 지원하므로 처리량이 많은 프로세스를 지원합니다. TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M etcher/asher는 고급 반도체 장치 생산에 적합한 도구입니다. 최적화된 디바이스 제작을 위한 고급 프로세스 기능과 더불어 안정적이고 정확한 에칭 성능을 제공합니다 (영문).
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