판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON HT-800-R4 #9285739

TEL / TOKYO ELECTRON HT-800-R4
ID: 9285739
Dry etchers Process: Metal Substrate size: 680 mm x 880 mm.
TEL/TOKYO ELECTRON HT-800-R4는 반도체 부품의 대용량 제조에 사용하도록 설계된 고정밀, 고 처리량 에칭/처리 기계입니다. 이 기계에는 2 개의 공정 챔버와 에칭/증착을위한 로봇 암이 있습니다. 공정 챔버에는 각각 Electron Beam Evaporation, High Density Plasma Etching, Ion Implantation, Chemical Plasma Deposition 및 Sputtering을 포함한 고유 한 기능을 갖춘 다양한 에칭/처리 챔버가 장착되어 있습니다. 로봇 암 (robot arm) 은 프로세스 챔버 내에서 웨이퍼 이동을 처리하기 위해 프로그래밍 될 수 있으며, 대규모, 대용량 처리에 효과적입니다. 이 기계는 가변 처리량을 특징으로하여 시간당 최대 50 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 3 계층 모니터 시스템을 사용하여 공정 챔버 내부의 온도와 압력, 증착/식각 속도 (deposition/etching rate) 를 모니터링하여 정확하고 일관된 결과를 보장합니다. 또한 주입 된 가스를 최적화하는 가벼운 냉각 시스템이 있습니다. 이 기계는 전원 공급 장치 (전원 공급 장치) 로 구동되며, 최대 500와트를 공급할 수 있습니다. 또한 GUI 사용자 인터페이스 (UI User Interface) 및 향상된 프로그램 명령으로 소프트웨어 복잡성을 줄여 프로그래밍의 필요성을 줄일 수 있도록 설계되었습니다. TEL HT-800-R4 etcher/asher 는 매우 정확하고 처리량이 많은 프로세스를 위해 구축되었으며 유지 보수 비용이 적고 다운타임이 최소화됩니다. 이 제품은 반도체 제조 분야에서 다양한 애플리케이션에 적합하며, 유연성 (Flexibility) 은 대용량 생산 (Production Run) 에 적합합니다.
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