판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9263869

TEL/TOKYO ELECTRON Formula (TEL/TOKYO ELECTRON Formula) 은 반도체 산업을 위해 설계된 다양한 고성능 에치 및 재 시스템을 나타냅니다. 이러한 시스템은 매우 정밀한 기능을 구축하고, 업계의 엄격한 규정 요건을 충족할 수 있도록 설계되었습니다. TEL Formula 는 에칭 및 애쉬 (ash) 애플리케이션을 위한 다용도, 견고성, 신뢰할 수 있는 도구입니다. 이 장비는 최대 ± 0.001 "의 정밀 수준을 허용하며, 가장 까다로운 기판에도 안정적인 성능을 제공합니다. TOKYO ELECTRON Formula는 다양한 기술을 사용하여 최적의 프로세스 결과를 만듭니다. 열 교환기 및 파동 리플로우 기술은 균일 한 프로세스 온도 및 웨이퍼 지형을 보장합니다. 이 시스템에는 플라즈마 소스 제어 전자 빔 증발이 장착되어 있으며, 일관성이 높은 난방 및 에칭 작업이 제공됩니다. 전자 충격 이온화 (EI) 이온 소스 기술은 가능한 가장 높은 물질 제거 및 증착 속도를 제공합니다. 또한 Formula 은 자동 채널 전환, RF/DC 전원 제어, 기판 온도 제어, 프로세스별 레시피 등 고급 프로세스 제어 기능을 제공합니다. 이 장치는 종합적으로 데이터 로깅 (Logging) 및 모니터링 (Monitor) 기능을 갖추고 문서 및 분석을 단순화합니다. 이 기계는 또한 여러 레시피를 포함하도록 업그레이드 할 수 있으며, 더 큰 유연성과 정밀도를 제공합니다. TEL/TOKYO ELECTRON Formula (TEL/TOKYO ELECTRON Formula) 은 고급 재료를 사용하며 고급 온도 조절, 식각 석영 도가니, HD 호환 컨트롤러, 가스 흐름 및 압력 프로파일 제어 소프트웨어 및 압력 프로파일 모델 등 고급 기능을 제공합니다. 혁신적인 설계는 균일 한 프로세스 조건, 우수한 프로세스 안정성 및 효율적인 운영을 보장합니다. 이 도구는 다재다능하며, 거의 모든 기판 및 응용 프로그램에 여러 가지 etch 및 ash 솔루션을 제공합니다. TEL 포뮬러 (TEL Formula) 는 사용 편의성을 위해 설계되었으며, 더 큰 자산을 운영하는 자원 또는 인력이 부족한 실험실 또는 생산 시설에 이상적인 솔루션입니다. 모듈식 설계를 통해 사용자는 필요에 따라 기능을 사용자 정의하고 확장할 수 있습니다. 또한 유지 보수가 간편하고 다운타임이 전혀 필요 없습니다 (영문). TOKYO ELECTRON Formal은 IEEE 1149.6 및 SECS II 규격을 준수하여 절대적인 프로세스 제어를 보장합니다. 이 장비는 최적화된 하드웨어와 소프트웨어로 제작되어 시스템 처리량을 극대화하고, 높은 공정 (high process) 수율과 높은 제품 품질을 보장합니다. 고급 프로세스 기능, 신뢰성 있는 성능, 낮은 유지 관리 요구 사항의 결합으로 포뮬러 (Formula) 는 다양한 에치 (etch) 및 애쉬 (ash) 어플리케이션에 이상적인 선택이 됩니다.