판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #293796682

TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H (또는 F1S-H) 는 다양한 재료에 정밀 에칭/애싱 기능을 제공하는 화학 에처/애셔입니다. 소형 4 가스 장비에는 2 개의 에칭 가스 라인과 2 개의 에너지 유도 가스 라인이 있습니다. 시스템은 매우 자동화되어 다양한 에칭 (etching )/애싱 (ashing) 작업에 필요한 조건을 프로그래밍할 수 있습니다. F1S-H는 정밀한 온도 조절을 위한 고해상도 히터 (heater) 와 같은 고급 기능을 갖추고 있습니다. 또한 4 개의 가스선을 모두 독립적으로 제어하여 에칭/애싱 효율을 극대화 할 수있는 양압 및 음압 조정이 가능합니다. 장치의 온도는 Quartz 복합 열전대에 의해 모니터링됩니다. 온도는 에칭/재 처리되는 물질과 일치하도록 4-600 '범위에서 조정할 수 있습니다. F1S-H는 또한 각 노즐 사이의 거리가 최소 3 ~ 55 마이크로 미터 범위의 교환 가능한 노즐이있는 멀티 헤드 노즐 머신을 갖추고 있습니다. 따라서 필요에 따라 에치 (etch) 패턴의 크기와 모양을 정확하게 조정하여 보다 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 또한 F1S-H에는 드라이 필름 (dry film) 과 웨트 필름 (wet film) 모두에 적합한 고급 필름 처리 도구가 있습니다. 에셋은 Indium Tin Oxide, Gold 및 Aluminum과 같은 필름 유형을 처리 할 수 있습니다. 필름 기판은 3 - 15 미크론의 필름 두께로 최대 8 "폭으로 처리 할 수 있습니다. 안전 조치를 위해 F1S-H에는 챔버 내 (in-chamber) 및 외부 배기 가스 모니터링 기능이 장착되어 있습니다. 이 모델은 가스 수치가 안전하지 않은 수준에 도달하면 자동으로 챔버 (chamber) 를 차단하도록 설계되었습니다. TEL Formula-1S-H는 에칭/애싱 어플리케이션에 이상적인 솔루션으로, 정확성과 효율성을 제공합니다. 첨단 기능과 기능을 통해 다양한 에칭 (etching )/애싱 (ashing) 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 컴팩트한 디자인과 견고한 장비로, F1S-H 는 다양한 산업, 실험실, 연구 요구에 경제적이고 안정적인 선택입니다.