판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #293744364

TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H는 집적 회로 및 미세 전기 기계 시스템 (MEMS) 의 산업 제작을 위해 설계 및 설계된 최첨단 에칭/애싱 장비입니다. 이 고급 시스템은 높은 처리량, 정밀 에칭 (precision etching) 프로세스를 보장하도록 설계되었으며 장치 생산량 향상, 프로세스 안정성 향상, 주기 시간 단축을 초래할 수 있습니다. TEL Formula-1S-H는 높은 진공 환경을 사용하여 완벽한 프로세스 제어 및 예측 가능한 결과를 보장합니다. 이 높은 진공 청소기 (vacuuming feature) 는 웨이퍼에 오염 물질이 증착되는 것을 방지하는 데 도움이되며, 한 배치의 웨이퍼에서 다른 웨이퍼로의 교차 오염을 방지하는 데 도움이됩니다. 이 장치는 직경 2 인치에서 8 인치 사이의 다양한 웨이퍼 크기를 수용 할 수 있으며, 프로세스 챔버는 효율적인 프로세스 균일성, 웨이퍼 위치 및 온도를 위해 설계되었습니다. 에칭 프로세스 (etching process) 는 낮은 스트레스 환경에서 이루어지며, 이는 에칭 과정에서 장치 스트레스와 손상을 최소화하는 데 도움이됩니다. 이 기계는 고급 컴퓨터 온도 제어 (Computerized Temperature Control) 및 전원 관리 시스템 (Power Management System) 을 활용하여 에칭 프로세스 동안 정확한 온도 및 전원 제어를 보장합니다. 이 온도 제어 도구 (Temperature Control Tool) 에는 지정된 프로세스 매개변수에 따라 샘플의 온도를 조정할 수 있는 기능이 있습니다. 전력 관리 서브시스템 (Power Management Subsystem) 을 통해 사용자는 에치의 전원 수준 (Power Level) 과 증착률 (Deposition Rate) 을 조정하여 최상의 결과를 얻을 수 있습니다. TOKYO ELECTRON Formula-1S-H는 또한 광범위한 습식 및 건식 에칭, 애싱, 스퍼터링 및 이온 이식 프로세스를 지원합니다. 이 자산은 다양한 원격 모니터링 시스템 (Remote Monitoring System) 과도 통합되어, 사용자가 실시간으로 Wafer 조건, 증착 및 Etch 매개변수를 모니터링할 수 있습니다. 이 기술은 프로세스가 일관되고 신뢰할 수 있도록 유지합니다. 고급 (advanced) 모델은 고급 모니터링 시스템 (advanced monitoring system) 을 활용하여 개별 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 실행 결과를 모니터링하고 프로세스 균일성과 안정성을 보장합니다. 또한, 장비를 완전히 사용자 정의할 수 있으며, 사용자는 대피 매개변수, 프로세스 챔버 크기, 샘플 랙, 대상 웨이퍼 크기, 방향 및 기타 매개 변수를 지정할 수 있습니다. Formula-1S-H는 강력하고 다재다능한 에칭 앤 애싱 (etching and ashing) 시스템으로 마이크로 일렉트로닉스 및 MEMS 제작의 응용 프로그램에 대해 일관되고 균일 한 처리 결과를 보장하도록 설계되었습니다. 이 장치의 고급 온도 및 전원 관리 시스템 (Advanced Temperation and Power Management System) 은 안정적인 프로세스 제어 환경을 제공하는 반면, 원격 모니터링 기능을 통해 사용자는 실시간으로 웨이퍼 조건, 증착, etch 매개변수를 모니터링할 수 있습니다. 이 시스템의 맞춤형 구성을 통해 사용자는 필요에 따라 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 효과적으로 확장할 수 있습니다.