판매용 중고 TECHNICS PLASMA GMBH 300 PC #293754150

TECHNICS PLASMA GMBH 300 PC는 반도체, 마이크로 일렉트로닉스 및 재료 과학 산업에 사용되는 다양한 재료의 정확하고 효율적인 플라즈마 처리를 위해 설계된 고성능 etcher/asher 장비입니다. 이 고급 플라즈마 시스템에는 최첨단 (state-of-the-art) 기술이 적용되어 광범위한 어플리케이션에 뛰어난 프로세스 제어, 반복 가능성, 신뢰성을 제공합니다. 주요 특징 및 사양: 1. Plasma Source: 300 PC에는 에칭 및 애싱 프로세스를 위해 반응성이 높은 플라즈마 종을 생성 할 수있는 강력한 플라즈마 소스가 장착되어 있습니다. "플라즈마 '" 소오스' 는 각기 다른 재료 유형 과 공정 요구 조건 을 충족 시킬 수 있도록 여러 가지 주파수 와 전력 수준 으로 작동 하도록 조정 되어 있다. 2. 공정 챔버 (Process Chamber): 이 장치는 균일 한 플라즈마 분포 및 효율적인 가스 위상 반응을 위해 설계된 고진공 공정 챔버를 갖추고 있습니다. 이 챔버 (Chamber) 는 거친 플라즈마 환경을 견뎌내고 손쉬운 청소 및 유지 관리를 용이하게하기 위해 부식 내성 물질로 만들어졌습니다. 3. 가스 배달 기계 (Gas Delivery Machine): 에처/애셔 (etcher/asher) 도구는 제어 된 유속 및 압력으로 반응성 가스를 공정 챔버에 공급하기위한 정확한 가스 배달 자산을 갖추고 있습니다. 이것은 최적의 프로세스 성능을 위해 플라즈마 화학의 정확한 제어 및 에칭/애싱 속도를 보장합니다. 4. 기판 처리: TECHNICS PLASMA GMBH 300 PC는 웨이퍼, 유리 기판 및 박막을 포함한 다양한 기판 크기와 유형을 지원합니다. 이 모델에는 기판 적재 및 언로드를 자동화하고, 수동 개입을 최소화하고, 프로세스 처리량을 향상시키는 로봇 (robotic) 기판 처리 장비가 장착되어 있습니다. 5. RF 전원 공급 장치 (RF Power Supply): 플라즈마 시스템은 처리 중 플라즈마 밀도, 균일성 및 안정성을 제어하기 위해 플라즈마 소스에 정밀한 전원 수준을 제공할 수있는 고주파 RF 전원 공급 장치로 구동됩니다. RF 전원 공급 장치는 고급 임피던스 매칭 네트워크와 통합되어 효율적인 전력 전송 및 플라즈마 생성을 지원합니다. 6. 프로세스 제어 소프트웨어 (Process Control Software): Etcher/Asher 장치는 프로세스 레시피를 정의하고, 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링하고, 원하는 에칭 및 어싱 결과를 달성하기 위한 프로세스 조건을 최적화하는 사용자 친화적 인 인터페이스를 제공하는 정교한 프로세스 제어 소프트웨어에 의해 제어됩니다. 또한, 프로세스 최적화 및 문제 해결을 위한 데이터 로깅 및 분석 툴도 제공합니다. 7. 안전 기능: 300 PC에는 운영자 보호 및 시스템 무결성을 보장하는 필수 안전 기능이 있습니다. 여기에는 인터 록, 비상 정지 버튼, 가스 누출 탐지기 및 사고를 예방하고 유해 물질의 안전한 처리를 보장하기위한 과압 구호 밸브가 포함됩니다. 전반적으로 TECHNICS PLASMA GMBH 300 PC는 최신 반도체 및 재료 처리 응용 프로그램의 까다로운 요구 사항을 충족시키기 위해 고급 플라즈마 기술과 강력한 디자인 및 사용자 친화적 인 컨트롤을 결합한 최첨단 에처/애셔 (etcher/asher) 도구입니다. 고성능 기능, 탁월한 프로세스 제어 기능, 안전 기능을 갖춘 이 Plasma (Plasma) 자산은 정확하고 안정적인 Plasma 처리 솔루션이 필요한 연구/운영 환경에 이상적인 선택입니다.