판매용 중고 SUMITOMO SP012 #293776226

SUMITOMO SP012는 반도체 제조, 연구 및 개발 응용 분야의 다양한 재료를 정확하고 효율적으로 처리하도록 설계된 최첨단 etcher/asher 장비입니다. 첨단 기술과 고성능 기능을 갖춘 SP012 는 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스의 탁월한 제어 및 유연성을 제공하여 다양한 어플리케이션에서 고품질의 결과를 얻을 수 있는 유용한 툴입니다. 주요 기능 및 기술 사양: 1. Plasma Source Technology: SUMITOMO SP012에는 기판에서 포토 esist, 폴리머 및 기타 유기 물질을 효율적으로 제거하기 위해 반응성이 높은 플라스마를 생성하는 고성능 플라즈마 소스가 장착되어 있습니다. 플라즈마 소스는 기판 표면에서 균일하고 일관된 에칭/애싱 (etching/ashing) 을 보장하여 정확한 패턴화 및 프로세스 제어를 가능하게합니다. 2. 프로세스 유연성: SP012는 다양한 재료와 어플리케이션을 수용할 수 있는 광범위한 프로세스 매개 변수 및 옵션을 제공합니다. 사용자는 가스 흐름 속도, 압력, 온도, RF 전력 등의 매개변수를 조정하여 에칭/애싱 (etching/ashing) 프로세스를 특정 요구 사항에 맞게 조정하여 다른 재료 및 구조에 대한 최적의 결과를 얻을 수 있습니다. 3. 다단계 처리: SUMITOMO SP012는 다단계 처리 기능을 지원하므로 복잡한 장치 구조 및 패턴을 달성하기 위해 다양한 조건의 다양한 etching/ashing 단계를 순차적으로 수행할 수 있습니다. 시스템을 자동으로 다른 프로세스 레시피 사이로 전환하도록 프로그래밍하여 생산성 (productivity) 과 프로세스 효율성 (process efficiency) 을 높일 수 있습니다. 4. 반응 가스 제어 (Reactive Gas Control): SP012는 에칭/애싱 프로세스에 사용되는 반응성 가스를 정확하게 제어하여 사용자가 대상 재료에 대한 특정 화학 반응 및 선택성을 달성 할 수 있도록 합니다. 이 장치는 가스 흐름 제어 및 혼합 기능을 제공하여 공정 요구 사항에 따라 맞춤형 가스 화학 물질 (custom gas chemistry) 을 만듭니다. 5. Endpoint Detection: SUMITOMO SP012에는 에칭/어싱 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수있는 고급 엔드 포인트 감지 시스템이 장착되어 있습니다. 플라즈마 배출량 또는 기타 지표의 변화를 감지함으로써, 기계는 원하는 엔드포인트에 도달 한 시점을 정확하게 결정하여, 일관된 프로세스 결과를 보장하고, 과잉-에칭/애싱 (over-etching/ashing) 을 방지할 수 있습니다. 6. 챔버 설계: SP012는 프로세스 성능 및 신뢰성에 최적화된 강력한 챔버 설계를 갖추고 있습니다. 이 약실은 안정적인 공정 조건을 유지하고, 입자 오염을 최소화하고, 균일 한 에칭/애싱 결과를 위해 효율적인 플라즈마 생성 및 분배를 보장하도록 설계되었습니다. 7. 사용자 친화적 인터페이스: SUMITOMO SP012에는 도구 작동 및 프로세스 제어를 단순화하는 직관적인 사용자 인터페이스가 장착되어 있습니다. 에셋은 간단한 레시피 프로그래밍, 데이터 로깅, 모니터링 기능을 제공하여 복잡한 에칭/애싱 (etching) 프로세스를 손쉽게 설정하고 실행할 수 있습니다. 전반적으로 SP012 etcher/asher 모델은 반도체 제조 및 연구에서 고정밀도 및 신뢰할 수있는 에칭/애싱 프로세스를위한 최첨단 솔루션입니다. 고급 기술, 프로세스 유연성, 사용자 친화적 인터페이스 등을 갖춘 SUMITOMO SP012 는 다양한 애플리케이션에서 최적의 결과를 얻을 수 있는 탁월한 성능과 제어를 제공합니다.