판매용 중고 SUMITOMO F-70H #293752729

SUMITOMO F-70H는 반도체 처리 응용 프로그램을 위해 설계된 최첨단 에처 및 애셔 장비입니다. 이 고급 도구는 플라즈마 (Plasma) 기술을 활용하여 높은 효율성과 정확도로 기판을 정확하게 식각 및 청소합니다. SUMITOMO F70H는 포토 마스크 클리닝, 저항 애싱, 유전체 에칭 등 반도체 업계의 다양한 응용 분야에 사용될 수있는 다재다능한 시스템입니다. F-70H의 주요 특징 중 하나는 강력하고 신뢰할 수있는 플라즈마 소스입니다. 이 장치에는 공정 안정성이 뛰어난 고출력 RF 플라즈마 제너레이터 (Plasma Generator) 가 장착되어 있습니다. 이 플라즈마 소스는 기판에서 정확하고 균일 한 에칭 및 청소 결과를 달성하는 데 필수적입니다. F70H는 또한 정교한 가스 전달 머신 (gas delivery machine) 을 갖추고 있어 가스 유속 및 가스 혼합물을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 에칭 (etching) 및 클리닝 프로세스를 조정하여 애플리케이션의 특정 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 가스 전달 도구 (Gas Delivery Tool) 에는 질량 흐름 제어기와 압력 조절기가 장착되어 있어 일관되고 재현 가능한 결과를 보장합니다. 고급 플라즈마 소스 및 가스 전달 자산 외에도 SUMITOMO F-70H에는 구성 가능한 공정 챔버 (process chamber) 가 장착되어 있습니다. 이 "챔버 '는 여러 가지 크기 와 모양 의 기판 들 을 수용 할 수 있도록 설계 되었으며, 그것 은 광범위 한 응용 에 적합 하다. 방은 또한 처리 중 기판의 온도를 제어하기 위해 난방 (heating) 및 냉각 (cooling) 모델을 갖추고 있습니다. SUMITOMO F70H (SUMITOMO F70H) 는 복잡한 컴퓨터 장비로, 사용자가 쉽게 에칭 및 청소 레시피를 프로그래밍 및 최적화할 수 있도록 합니다. 이 시스템은 사용자에게 친숙한 인터페이스를 통해 프로세스 매개변수를 직관적으로 작동하고 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 사용자는 반복 가능한 결과를 위해 프로세스 레시피를 저장하고 검색 할 수도 있습니다. F-70H의 또 다른 중요한 특징은 고급 엔드 포인트 감지 장치입니다. 이 기계는 광학 방출 분광학 (optical emission spectroscopy) 을 사용하여 처리 중 플라즈마 배출량을 모니터링하고 에칭 또는 클리닝 프로세스의 끝점을 정확하게 감지합니다. 따라서 사용자는 프로세스를 정확하게 제어하고 원하는 결과를 얻을 수 있습니다. F70H는 운영자를 보호하고 안전한 운영을 보장하는 고급 안전 기능을 갖추고 있습니다. 공구는 작업 중 프로세스 챔버에 무단 액세스를 방지하기 위해 연동 메커니즘 (interlock mechanism) 으로 설계되었습니다. 또한 안전 센서를 사용하여 비정상적인 작동 조건을 감지하고 응답합니다. 전체적으로 SUMITOMO F-70H는 최첨단 에처 및 애셔 에셋으로, 고성능, 다용도 및 신뢰성을 제공합니다. 고급 플라즈마 기술, 정밀 제어 시스템, 사용자 친화적 인 인터페이스를 갖춘 SUMITOMO F70H는 기판의 정확한 에칭 및 청소가 필요한 반도체 처리 어플리케이션에 이상적인 솔루션입니다.