판매용 중고 STS / CPX Multiplex ASE ICP #9179213

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ID: 9179213
웨이퍼 크기: 6"
Etcher, 6" Manual load Single wafer load lock Standard rate ASE PFEIFFER TMH 100PC Turbo pump TCP 600 Controller RF Trolley ENI ACG3 300W RF Power supply for lower electrode ACG10B 1000W RF Power supply for upper electrode Tuner Remote gas box: (4) MFCs (Ar,O2, SF6, C4F8) 208V.
STS/CPX Multiplex ASE ICP etcher/asher는 웨이퍼를 에칭 및 재싱하기위한 고도의 고급 도구입니다. 다른 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 동시에 다른 챔버에서 수행 할 수있는 멀티 존 (multi-zone) 장비입니다. 이 시스템은 고주파 전원 공급 장치 (High-Frequency Power Supply) 와 정교한 디지털 제어 시스템 (Digital Control System) 을 장착하여 사용자에게 Etch 및 Ash 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있습니다. STS Multiplex ASE ICP 에처/애셔는 유도 결합 플라즈마 (ICP) 에칭과 애싱을 모두 제공하는 고효율 유닛입니다. 그것 은 귀중 하고 지속적 으로 높은 압력 으로 작동 하도록 설계 되었으며, 따라서 우월 한 "웨이퍼 '마무리 와 균일 함 을 제공 해 준다. 이 기계의 플라즈마 소스 (plasma source) 와 통합 RF 매칭 네트워크 (integrated RF matching network) 는 플라즈마의 수소 희석을 최소화하여 매우 부드러운 필름 프로파일을 보장하도록 신중하게 설계되었습니다. CPX Multiplex ASE ICP etcher/asher의 ICP 챔버는 또한 고출력 밀도와 고압 작동을 수용하여 가장 복잡한 에치 작업에 이상적입니다. 구리 라이너 (copper liner) 가 특징이며, 기생 커패시턴스를 줄이고 에치 공정의 반복 성과 게이지 제어를 개선합니다. 또한, 챔버의 특별히 설계된 벽 스트립은 에치 (etch) 영역의 전체 360도 범위를 보장합니다. Multiplex ASE ICP etcher/asher는 etch 프로세스 동안 웨이퍼의 모양과 프로파일을 정확하게 모니터링하고 측정 할 수있는 고해상도 디지털 이미징 (digital imaging) 도구를 갖추고 있습니다. 또한 이 에셋을 사용하면 결과를 저장하고 리콜할 수 있으며, 이를 통해 시간이 지남에 따라 에치 (etch) 프로세스를 모니터링할 수 있습니다. STS/CPX Multiplex ASE ICP etcher/asher는 높은 품질의 결과를 적시에 제공 할 수있는 매우 신뢰할 수있는 도구입니다. 이 제품은 다양한 웨이퍼의 에칭 (etching) 및 재싱 (ashing) 을 위한 고급 플랫폼을 제공하여 복잡한 프로세스를 빠르고 효율적으로 완료할 수 있습니다. 이 모델은 다양한 산업, 의료, 자동차 분야의 응용 분야에 이상적입니다.
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