판매용 중고 SPTS APM-011 #293807235

SPTS APM-011 (SPTS APM-011) 은 마이크로 일렉트로닉스 제조 공정에서 반도체 웨이퍼에서 재료를 정확하게 제거하도록 특별히 설계된 고급형 etcher/asher 장비입니다. 이 최첨단 장비는 집적 회로, MEMS 장치, LED 장치 및 기타 반도체 장치의 제작에서 중요한 구성 요소로, 미세한 기능 패턴화 (patterning) 및 재료 제거가 필요합니다. APM-011 (APM-011) 의 중심에는 정교한 플라즈마 에칭 및 애셔 (asher) 기능이 있으며, 기판 표면에서 재료를 정확하고 선택적으로 제거 할 수 있습니다. 이 시스템은 RF 플라즈마 파워 (RF Plasma Power), 가스 화학 (Gas Chemistry) 및 공정 매개변수 (Process Parameter) 의 조합을 사용하여 높은 정확성과 반복성으로 물질을 에치 또는 재로 만듭니다. 이것 은 현대 "마이크로일렉트로닉 '장치 의 기능 에 필수적 인, 반도체" 웨이퍼' 에 복잡 한 무늬 와 구조 를 조성 할 수 있다. SPTS APM-011 (APM-011) 의 주요 기능 중 하나는 다양한 재료 및 프로세스 요구 사항을 처리하는 데 있어 다용성과 유연성입니다. 이 장치 는 여러 개 의 "가스 '입구 를 갖추고 있어서," 에치' 나 "애싱 '할 재료 에 따라 여러 가지 공정" 가스' 를 사용 할 수 있다. 이러한 유연성을 통해 기계는 등방성 (isotropic) 또는 이방성 에칭 (anisotropic etching) 과 같은 다양한 에칭 화학 물질과 청소 및 표면 수정을위한 애싱 프로세스를 수용 할 수 있습니다. 또한 APM-011은 가스 처리 기능 외에도 가스 흐름 속도, 압력, 온도, RF 전력 등 프로세스 매개 변수를 정확하게 관리하는 고급 제어 시스템 (Advanced Control System) 을 갖추고 있습니다. 이러한 제어 시스템은 에칭/애싱 (etching/ashing) 프로세스의 균일성과 재현성을 보장하며, 여러 웨이퍼에서 일관되고 안정적인 결과를 가져옵니다. 또한 실시간 모니터링/진단 툴을 통해 운영자가 프로세스를 실시간으로 최적화, 문제 해결하여 높은 프로세스 안정성, 생산성을 보장할 수 있습니다 (영문). 또한 SPTS APM-011은 생산성과 처리량을 고려하여 설계되었습니다. 자산에는 멀티 웨이퍼 처리 (multi-wafer handling) 기능이 있어 여러 웨이퍼를 동시에 일괄 처리할 수 있습니다. 높은 처리 성능을 갖춘 이 모델은 효율성과 생산성이 중요한 대용량 운영 환경에 이상적입니다 (영문). APM-011은 또한 안전 및 환경 고려 사항을 고려하여 설계되었습니다. 이 장비는 첨단 가스 처리 및 배기 시스템 (Exhaust System) 을 갖추고 있어 부산물과 화학 물질 배출의 안전한 격리 및 폐기를 보장합니다. 또한, 이 시스템은 산업 규정 및 직장 안전 및 환경 보호 표준 (standard for workplace safety and environmental protection) 을 준수하도록 설계되었습니다. 전반적으로 SPTS APM-011은 반도체 제조 공정에 탁월한 정밀도, 유연성 및 생산성을 제공하는 최첨단 etcher/asher 장치입니다. 첨단 기능, 다목적 설계, 안전 및 환경 규정 준수에 중점을 둔 이 제품은 오늘날 반도체 업계에서 최첨단 마이크로일렉트로닉 (microelectronic) 장치를 생산하는 데 없어서는 안될 도구입니다.