판매용 중고 SHIBAURA CDE-7-4 #293796126

SHIBAURA CDE-7-4는 고급 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 에처/애셔 장비입니다. 이 Precision 장비는 혁신적인 기술을 통합하여 탁월한 처리 능력을 제공하며, 탁월한 정확도와 신뢰성을 갖춘 고품질의 반도체 (Semiconductor) 장치를 생산할 수 있습니다. 시바 우라 CDE 74 (SHIBAURA CDE 74) 는 반도체 기판에서 박막 에칭 및 애싱 (ashing) 과 같은 응용 분야에 반도체 산업에서 널리 사용된다. CDE-7-4 (CDE-7-4) 의 주요 특징 중 하나는 고급 플라즈마 에칭 기술로, 반도체 기판에서 재료를 정확하고 균일하게 제거 할 수 있습니다. 이 시스템은 고밀도 플라즈마 소스 (plasma source) 를 사용하여 기본 레이어를 보호하면서 원하는 재료를 선택적으로 에치하는 반응성 종을 생성합니다. 이를 통해 종횡비 및 서브 미크론 피쳐 크기가 높은 복잡한 반도체 구조를 생산할 수 있습니다. CDE 74 에는 정교한 프로세스 제어 장치 (process control unit) 가 장착되어 있어 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링하고 조정하여 일관되고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 시스템은 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 운영자가 다른 응용 프로그램의 에칭 (etching) 프로세스를 쉽게 프로그래밍하고 최적화할 수 있습니다. SHIBAURA CDE-7-4는 또한 다양한 프로세스 레시피 및 사용자 정의 가능한 설정을 제공하여 광범위한 반도체 재료 및 장치 구조를 수용합니다. 시바 우라 CDE 74 (SHIBAURA CDE 74) 는 에칭 외에도 반도체 기질에서 광저장제 및 기타 유기 오염 물질을 제거하기위한 애싱 프로세스를 수행 할 수있다. 이 공구는 플라즈마 (plasma) 와 반응성 가스 (reactive gase) 의 조합을 사용하여 기본 레이어를 손상시키지 않고 유기 물질을 효율적으로 벗깁니다. 이 기능은 여러 리소그래피 단계를 포함하고 포토레지스트 잔기 (photoresist residue) 를 제거해야 하는 반도체 제조 공정에 필수적입니다. CDE-7-4 는 높은 품질의 구성 요소와 고급 제어 시스템 (고급 제어 시스템) 을 갖춘 정확성과 안정성을 고려하여 설계되었으며, 운영 기간 연장 (extended period of operation) 에 걸쳐 일관된 성능을 보장합니다. 이 자산에는 가스 누출 탐지기, 진공 인터 록 (vacuum interlock), 비상 셧다운 메커니즘 (emergency shutdown mechanism) 과 같은 안전 기능이 장착되어 있어 운영자를 보호하고 프로세스 중단을 방지합니다. 또한 CDE 74 는 간편한 유지 보수, 액세스 가능한 구성 요소, 모듈식 설계를 통해 신속한 문제 해결 및 서비스를 지원합니다. 전반적으로 SHIBAURA CDE-7-4는 반도체 제조 공정에 뛰어난 성능과 신뢰성을 제공하는 최첨단 etcher/asher 모델입니다. 고급 플라즈마 (Plasma) 기술, 정밀한 프로세스 제어, 사용자 친화적 인터페이스 등을 통해 사양이 까다로운 고품질 반도체 장치를 생산할 수 있습니다. 시바우라 CDE 74 (SHIBAURA CDE 74) 는 종합적인 기능과 견고한 설계를 통해, 반도체 제조업체를 위한 신뢰할 수 있는 솔루션으로, 최적의 프로세스 성과를 달성하고 경쟁력 있는 업계에서 앞서가고자 합니다.