판매용 중고 SEZ / LAM RESEARCH SP 304 #9093794

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ID: 9093794
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2001
Spin etcher, 12" Single wafer processing (1) Process chamber (2) Load ports 8” / 12” Conversion kit Main unit (MU): FM 4910 compliant Dual FOUP wafer loader system Robot backside and frontside handling (12 B/F) Equipment robot + flip module Wafer ID reader Step-up transformer (208V-400V) Mini environment with ULPA filtration (3) Chemical cabinets (CDS): FM 4910 compliant Preparatory tank Buffer tank Mix and buffer Chemical storage reservoir ENTEGRIS Valves (flaretek) Nippon pillar pumps for supplying, recycling, and draining of chemical Filter housing Dual high temperature heat exchangers for chemical temperature control Paddle wheel Chemicals used: Nitric acid Phosphoric acid Hydrofluoric acid HF/HNO3 (1:25) HF/HNO3 / H3PO4 (1:6:4) Filter fan unit UL Certified 2001 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH SP 304 etcher/asher 장비는 반도체 제조 공정의 기판 재료 에칭 및 해시에 사용되는 도구입니다. 습식 에칭 (wet etching), 건식 에칭 (dry etching), 포토레시스트 스트리핑 (photoresist stripping), 저항 스트립 에칭 (resist strip etching) 등 다양한 프로세스 단계를 수행 할 수 있습니다. 이 시스템에는 각각 자체 제어 장치가있는 2 개의 독립적 인 프로세스 모듈이 있습니다. 첫 번째 모듈은 에칭 스테이션 (etching station) 으로, 기판 재료의 에칭에 사용됩니다. 반응성 이온 에칭, 플라즈마 에칭, 드라이 에칭 등의 프로그래밍 가능한 에칭 프로세스가 특징입니다. 에칭 스테이션은 또한 산화물 디핑, 포토 esist 스트립 (photoresist stripping) 및 저항 스트립 에칭 (resist strip etching) 과 같은 청소 및 선택성 단계를 수행 할 수 있습니다. 두 번째 모듈은 ashing 스테이션입니다. 그것 은 광저장제, 폴리이미드, 기타 유기 물질 을 기질 물질 로부터 제거 하는 데 사용 된다. 이 기능을 사용하면 마스크없는 리소그래피 프로세스를 매우 빠르게 수행할 수 있습니다. 두 프로세스 모듈 모두 처리량과 유연성을 극대화할 수 있도록 설계되었습니다. 고급 프로세스 제어 시스템을 갖추고 있어, 정확한 온도 및 전원 제어를 보장합니다. 또한 각 모듈에는 고속 플러시 (fast flushing) 기능이 장착되어 있어 빠른 전체 필드 에칭 및 재싱이 가능합니다. 게다가, 두 모듈은 통합 엔드포인트 감지 머신 (integrated endpoint detection machine) 을 특징으로하며, 이는 모든 에칭 또는 애싱 단계의 끝을 감지하고 그에 따라 프로세스를 조정할 수 있습니다. SEZ SP 304 는 안전하고 안정적인 방식으로 작동하는 강력한 툴로서, 최소 사용자 유지 보수 (user maintenance) 가 필요합니다. 자산은 IS09001 및 SEMI S2와 같은 안전 및 환경 표준을 준수합니다. 이 모델의 저비용 (low cost) 과 컴팩트 (compact) 설계는 기존 fabs 및 신흥 fabs 모두에 이상적인 선택입니다. LAM RESEARCH SP 304 etcher/asher는 다양한 프로세스 단계를 수행 할 수있는 매우 다양한 장비입니다. 제조업체에게 우수한 수율로 에치 (etch) 와 재 (ash) 를 제공하는 동시에 일관되고 신뢰할 수있는 결과를 제공합니다. 반도체 제작 프로세스의 품질을 보장하는 비용 효율적이고 효율적인 툴입니다.
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