판매용 중고 SEZ / LAM RESEARCH SM101-4-B #293747990

SEZ/LAM RESEARCH SM101-4-B는 고급 반도체 제조 응용 프로그램을 위해 설계된 고성능 etcher/asher 장비입니다. 이 최첨단 툴은 정확한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 기능을 제공하여 반도체 업계의 제조 공정의 필수 요소입니다. 고급 기능과 견고한 설계를 갖춘 SEZ SM101-4-B 는 현대 반도체 생산의 까다로운 요구사항을 충족시켜 고수율 (HI) 및 품질 (Quality) 출력을 보장합니다. LAM RESEARCH SM101-4-B의 주요 기능 중 하나는 다용도 처리 기능입니다. 이 시스템은 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 처리하여 반도체 제작의 다양한 응용 분야에 적합합니다. 실리콘, 산화물, 질화물 또는 금속을 에칭하는지의 여부, SM101-4-B는 안정적이고 반복 가능한 결과를 제공하므로 다른 재료 및 장치 구조에서 일관된 프로세스 성능을 보장합니다. 이 장치에는 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 매개변수의 정확한 튜닝이 가능한 고급 프로세스 컨트롤이 장착되어 있습니다. 가스유속, 압력, 온도, "플라즈마 '동력 과 같은 요인 들 을 제어 함 으로써, 연산자 들 은 프로세스 조건 을 최적화 하여 원하는 식자율, 선택성, 프로파일 제어 를 달성 할 수 있다. 이러한 수준의 프로세스 제어 (process control) 는 웨이퍼에 걸쳐 탁월한 균일성과 반복성을 보장하여 고품질 디바이스 제작을 실현합니다. SEZ/LAM RESEARCH SM101-4-B는 효율적인 에칭 및 애싱을 위해 반응성 플라즈마를 생성하는 고성능 플라즈마 소스를 특징으로합니다. 혈장 공급원 (Plasma Source) 은 기질 표면과 상호 작용하는 반응성이 높은 종을 생성 할 수 있으며, 물리적, 화학적 과정을 통해 물질을 쉽게 제거 할 수있다. 이렇게 하면 기본 레이어에 대한 손상을 최소화하면서 다양한 재료를 빠르고 효과적으로 에칭할 수 있으며, 탁월한 프로세스 성능, 디바이스 무결성 (device integrity) 을 보장합니다. 강력한 플라즈마 소스 외에도 SEZ SM101-4-B에는 정교한 웨이퍼 처리 장치 (wafer handling machine) 가 장착되어 있어 처리 중 웨이퍼 위치와 처리가 정확합니다. 이 도구는 효율적인 웨이퍼 로드 및 언로드, 주기 시간 최소화, 도구 생산성 극대화 등의 고급 (advanced) 로봇과 자동 (automated) 컨트롤을 갖추고 있습니다. 이러한 자동화 수준은 또한 운영자의 개입을 줄이고, 전반적인 프로세스 효율성과 처리량을 향상시킵니다. LAM RESEARCH SM101-4-B는 고급 안전 기능을 통합하여 운영자 보호 및 장비 신뢰성을 보장합니다. 자산에는 가스 모니터링 시스템, 진공 인터 록 (vacuum interlock) 및 긴급 셧다운 메커니즘이 장착되어 있어 위험한 상황과 장비 손상을 방지합니다. 이는 운영자와 장비를 보호할 뿐만 아니라, 업계 표준과 규정을 준수할 수 있도록 합니다 (영문). 전반적으로 SM101-4-B는 반도체 제조에 탁월한 성능, 다양성 및 신뢰성을 제공하는 최첨단 etcher/asher 모델입니다. 고급 프로세스 제어, 강력한 플라즈마 소스, 정확한 웨이퍼 처리 및 안전 기능을 통해 SEZ/LAM RESEARCH SM101-4-B는 최신 반도체 제작 프로세스의 엄격한 요구 사항을 충족 할 수 있습니다. 이 도구는 고품질 (고품질) 의 결과를 제공하고 생산성을 극대화함으로써 최첨단 반도체 장치를 개발하는 데 중요한 역할을 합니다.