판매용 중고 SEZ / LAM RESEARCH DV-34 #9233096

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ID: 9233096
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2007
Single wafer processing system Particle, polymer, & residue removal Wafers Wafer type: Standard Wafer surface treatment Cassette interfaces (25) Wafers Wafer robot (dual arm): BROOKS DBM-2406 V Robot controller: BROOKS EDC-2400 Dual ceramic end effector End effector size: 12 Options: OHT (Over Head Transfer) Light curtain Ionizer: 5285e / 4630 No open cassette adapter No wafer protrusion sensor (200mm) No carrier ID reader (RFID) No AGV Process modules: 4 / 8 Chambers (L / R) 4 chambers PSL-1 & PSL-2 (Left side): Medium-1 arm (Standard): Chemical used Medium-2 arm (Option): Chemical used DIW Arm Chuck (ADV pin) Spindle & elevating units PM I/O & Safety Box No active jet nozzle PSR-1 & PSR-2 (Right side): Medium-1 arm (Standard): Chemical used Medium-2 arm (Option): Chemical used DIW Arm Chuck (ADV pin) Spindle & elevating units PM I/O & Safety box No active jet nozzle Liquid / Chem supply cabinets (CHC1 / CHC2): CHC1: (Standard & Dual tank) Tank A: Medium REZI38 Mix ratio / Temperature 25°C Medium fill port, type: Auto fill Medium paddle wheel DIW Fill port, type: Auto fill DIW Paddle wheel Medium in-line filtration system Sampling port Buffer tank Suckback valves ULTRASONIC Flow meter Tank B: Used for chemical Medium REZI38 Mix ratio / Temperature 25°C Medium fill port, type: Auto fill Medium paddle wheel DIW Fill port, type: Auto fill DIW Paddle wheel Medium in-line filtration system Sampling port Buffer tank Suckback valves ULTRASONIC Flow meter Dual in-line heater & cooler No DI/O3 line Process pump No booster pump Recirculation pump Drain pump CHC2: System standard: (8) Chambers System option: (4) Chambers Tank A: Medium paddle wheel DIW Paddle wheel No medium in-line filtration system Sampling port No buffer tank Suckback valves ULTRASONIC Flow meter Tank B: Medium paddle wheel DIW paddle wheel No medium in-line filtration system Sampling port No buffer tank Suckback valves ULTRASONIC Flow-meter Dual in-line heater & cooler No DI/O3 line Process pump No booster pump installed Recirculation pump Drain pump CDS I/O & safety box Separate drain Chemical supply: Med-1 Pre mix Med-2 Pre mix DIW Option: HORIBA Chemical analyzer Safety: Earthquake protection FM 4910 Compliant material No main unit drip pan No drip pan leak detection Host control: SECS II (HSMS) No SECS II (RS232) User interface: Status lamp (R/Y/B/G) Sound module Front & back side UI (touch+keyboard) Options: Wafer handling robot display (CCD / Monitor) Process chamber display No dedicated backing pump No XRD module No ozone module Transformer: 30 kVA Transformer CE compliant (Input 208 Y) No transformer CE compliant with GFI (Input 208 Y) UPS No entire system (30 kVA): In 400 VAC / Out 400 VAC No control PC only (2 kVA): In 230 VAC / Out 230 VAC No pre-etch thickness No post-etch thickness No target uniformity of etch No backside surface conditioning No rough finish No polished finish No front-side etch No back-side etch No backside etch & bevel clean No oxide thinning / Removal No nitride thinning / Removal No polysilicon thinning / Removal No bevel clean No undercut Missing parts: (2) ECO Tune motors (8) Dispenser motors (2) Brake pin cylinders (2) Dispenser nozzles (2) VALVlE SAM-3250-NZD401FFI(12) Drain pump Filter Power supply: 208 VAC, 20 kVA Power Distribution Box (PDB) CE Color code No UL color code 2007 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH DV-34는 가장 효율적이고 안정적인 기판 처리를 제공하는 고성능 etcher/asher입니다. 첨단 기능 과 뛰어난 정확도 로, 이 도구 는 "스퍼터링 '과" 안노다이징' 으로부터 제거 와 리소그래피 에 저항 하는 여러 가지 응용 에 이상적 이다. 에처/애셔 가스 전달 장비는 기판 손상을 최소화하면서 처리량을 최대화하도록 설계되었습니다. 또한 가스 흐름 및 프로세스 매개 변수를 정확하게 제어하여 일관된 결과를 제공합니다. etcher/asher's rotational baseplate는 최대 8 인치 크기의 모든 기판에 대한 빠른 스핀 앤 고 (spin-and-go) 처리를 허용합니다. 각기 다른 기판 및 프로세스를 수용할 수 있도록 조절 가능한 압력과 흐름을 갖춘 유니버설 드라이브 시스템 (Universal Drive System) 이 특징입니다. 또한, 가스 전달 장치 (gas delivery unit) 는 필요한 프로세스 매개변수와 일치하도록 조정되어 에칭 및 애싱 (ashing) 중에 정확하게 제어 할 수 있습니다. 그것 은 또한 상하 로 확장 할 때 "챔버 '를 보호 하는 것 을 갖추고 있으며, 그 장비 와 기판 이 상부 상태 에 있음 을 확인 한다. 소프트웨어 측에서 SEZ DV-34 etcher/asher에는 고급 프로세스 최적화 및 모니터링을위한 유연한 제어 시스템이 있습니다. 가스 흐름 및 챔버 조건에 대한 실시간 피드백 (feedback) 과 경보 알림, 자동 제한 시간, 원격 제어 기능 등을 제공합니다. 사용자 인터페이스는 매우 직관적이고 사용하기 쉽고, 단순한 프로그래밍 및 프로세스 제어를 제공합니다. 이를 통해 LAM RESEARCH DV-34는 다양한 응용 프로그램에서 안정적이고 다양한 도구를 사용할 수 있습니다. 높은 균일성, 반복성 및 신뢰성은 DV-34 etcher/asher를 반도체 연구 및 생산에 적합한 선택으로 만듭니다. 최대 200 미크론 정확도로 습식 에칭, 건식 에칭 및 애싱 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 저전력 소비량 (low power consumption) 및 공구 수준 (tool-level) 진단을 통해 높은 처리량 생산 환경을 위한 매력적인 선택이 가능하며, 유연성과 사용 편의성도 고급 연구에 적합합니다.
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