판매용 중고 SCREEN SP-W813-U #293754469

SCREEN SP-W813-U 는 마이크로 전자 장치 제조에서 반도체 웨이퍼를 정확하고 안정적으로 처리하도록 설계된 고급 etcher/asher 장비입니다. 이 다목적 장비는 에칭 (etching) 또는 애싱 (ashing) 프로세스를 위한 다양한 기능을 제공하여 연구 개발 연구소 (Research and Development Labs) 와 대용량 생산 시설에 필수적인 도구입니다. SP-W813-U 의 핵심은 고급 플라즈마 (Plasma) 기술로, 웨이퍼를 고도로 제어하고 균일하게 처리할 수 있습니다. 이 시스템은 고주파 전원 (high-frequency power source) 을 사용하여 반응 챔버에서 플라즈마 방전 (plasma discharge) 을 생성합니다. 여기서 웨이퍼는 처리를 위해 배치됩니다. 이 "플라즈마 '는 여러 가지" 가스' 와 공정 조리법 에 맞게 조정 될 수 있으며, 그것 을 이용 하여 광범위 한 "에칭 '과" 애싱' 을 할 수 있다. SCREEN SP-W813-U 의 주요 기능 중 하나는 다양한 프로세스 기능입니다. 이 장치는 습식 (wet) 및 건식 (dry) 에칭 프로세스를 모두 지원하므로 다양한 재료와 응용 프로그램에 적합합니다. 습식 에칭은 액체 화학 물질을 사용하여 웨이퍼에서 물질을 선택적으로 제거하는 반면, 건식 에칭은 플라즈마 (plasma) 를 사용하여 표면을 에칭합니다. SP-W813-U 는 또한 산소 플라즈마를 사용하여 웨이퍼 표면에서 유기 오염 물질을 제거하는 ashing 프로세스를 지원합니다. 이 기계에는 염소, 플루오린, 산소, 아르곤 등 일반적으로 사용되는 가스를 포함한 다양한 공정 가스 옵션이 장착되어 있습니다. 이러한 "가스 '를 결합하여 특정 재료 및 에칭 요구 사항에 맞춘 맞춤형 프로세스 레시피를 만들 수 있습니다. "가스 '의 흐름 은 전체" 웨이퍼' 표면 을 통해서 균일 한 처리 를 보장 하기 위하여 정확 하게 조절 되어 높은 공정 의 반복성 과 생산성 을 유도 한다. 프로세스 제어 및 유연성을 더욱 향상시키기 위해 SCREEN SP-W813-U 는 사용자에게 친숙한 인터페이스를 제공하여 운영자가 처리 매개변수를 쉽게 프로그래밍하고 모니터링할 수 있습니다. 이 도구는 가스 흐름 속도, 챔버 압력, 플라즈마 전력 (plasma power) 과 같은 주요 프로세스 변수의 실시간 모니터링을 지원하며, 연산자가 처리 조건을 최적화하여 효율성 및 품질을 극대화할 수 있습니다. 웨이퍼 처리 측면에서 SP-W813-U 는 최대 300mm 의 표준 웨이퍼 크기와 호환되도록 설계되었습니다. 에셋은 웨이퍼 전송 메커니즘으로, 로드 및 언로드 중 와퍼를 부드럽게 처리하고, 손상 또는 오염 위험을 최소화합니다. 챔버 설계는 펌프 다운 (Rapid Pump Down) 및 벤트 사이클 (Vent Cycle) 에 최적화되어 전체 처리 시간을 줄이고 모델 처리량을 증가시킵니다. 안전 (Safety) 은 SCREEN SP-W813-U 설계의 또 다른 중요한 측면이며, 사고 방지 및 운영자 보호를 위해 안전 연결 및 모니터링 시스템이 내장되어 있습니다. 이 장비에는 최적 성능을 유지하고 다운타임을 최소화하기 위해 고급 진단 (diagnostics) 및 자체 교정 (self-calibration) 루틴이 장착되어 있습니다. 전반적으로 SP-W813-U 는 최첨단 etcher/asher 시스템으로, 반도체 웨이퍼 처리를 위한 탁월한 프로세스 제어, 유연성 및 신뢰성을 제공합니다. 고급 플라즈마 (Plasma) 기술, 다용도 프로세스 기능, 사용자 친화적 인 인터페이스를 갖춘 이 장치는 반도체 업계를 위한 필수불가결한 도구로서, 탁월한 품질과 효율성을 자랑하는 첨단 마이크로일렉트로닉스 (Microelectronics) 장치를 개발, 생산할 수 있습니다.