판매용 중고 SAMCO RIE-1C #9357610

제조사
SAMCO
모델
RIE-1C
ID: 9357610
Reactive Ion Etcher (RIE) Vacuum chamber: Quartz: 212 mm diameter Rectangular view port at front panel Hinged lid with front mounted handle Mesh cover Electrodes: Parallel plate design Cathode coupling (RIE) mode Distance: 44 mm (Fixed) Upper electrode: Aluminum Diameter: 140 mm Shower-head gas dispersion system Lower electrode: Type: Cathode (RF electrode) Stainless steel Diameter: 120 mm Water cooled Special tray: Aluminum Diameter: 120 mm Maximum substrate size: 100 mm RF Power source: Solid state power generator Crystal control Power: 13.56 MHz, 200 W (Maximum) RF Power interlock With chamber lid Vacuum pump: Double stage rotary pump Flow rate: 240 l/min With PFPE pump fluid Oil mist filter Solenoid operated nitrogen gas ballast control valve Couplings with metal vacuum hose Vacuum gauge: Capacitance monometer: 0-2 Torr Gas delivery and inlet system: (2) Mechanical flow meter controlled lines: CF4 / O2 Nitrogen purging line Flow range: 0-20 SCCM Timers: Digital for process time: 0-99 Seconds, minutes / Hours Resolution: 0.1s Adjustable purging time: 0-60 Seconds Audio alarm Utilities required: Step-down transformer Cooling water: 2 Liter/min Supply pressure: 15-20°C, 0.1-0.2 MPa Supply and return connection: RC 1/4" and 1/4" O.D Tubing Depth filter: 20 µm Process gas supply: 0.1 MPa (15 psig) Connection: Swagelok fittings, ¼" Filters: 2 µm Safety features: Door interlock Pressure interlock Pressure reached alert Venting: Exhaust duct for pump NW 25 Rotary pump exhaust Power supply: 100 VAC, 15 A, Single phase.
SAMCO RIE-1C는 SAMCO, Inc.에서 만든 RIE (Rapid Ion Etcher) 입니다. 그것은 다양한 재료의 에칭과 재를 위해 설계되었습니다. 이 헤비 듀티 에처 (heavy-duty etcher) 는 전자적으로 제어 된 고출력 RF 발전기를 사용하여 반응성이 높은 이온 빔을 생성하여 다양한 재료를 에치 또는 재시 할 수 있습니다. 이 장비는 화학 실험실, 연구 센터, 대학 및 첨단 산업에 사용하기에 적합합니다. RIE-1C의 주요 기능은 고출력 RF 생성기입니다. 이 발전기는 최대 4.2kW의 전력을 생산하여 빠른 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 가능하게합니다. 또한 정확한 전력 제어 및 펌핑 속도를 위해 디지털 컨트롤러 (Digital Controller) 가 장착되어 있습니다. 이 컨트롤러에는 디지털 디스플레이 콘솔 (digital display console) 이 있어 다른 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 절차에 대한 전원 및 기타 매개변수를 쉽게 조정할 수 있습니다. 또한 etcher는 다중 레이어 구조를 갖습니다. 외부 층 (음극) 은 무거운 합금 물질로, 내부 층 (기판) 은 티타늄 합금으로 만들어집니다. 이 이중 층 구조는 이온 빔을 향상시키고 에칭 된 재료의 일관되게 높은 품질을 보장합니다. RF 발전기는 외부 커패시터에서 공급되는 직류 (direct current) 로 구동됩니다. 이는 장기 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스 중에도 중단 없이 전원을 공급하는 데 도움이 됩니다. SAMCO RIE-1C에는 수냉식 펌프, 가스 탱크, RF 코일, 자동 초점 렌즈 및 가스 피드 어댑터를 포함한 다양한 액세서리가 제공됩니다. 이를 통해 다양한 에칭 및 애싱 응용 프로그램이 가능합니다. 추가 기능으로, RIE-1C는 또한 에치 (etched) 및 애쉬 (ashed) 재료를 제자리에 유지하기위한 백래시 방지 구조를 가지고 있습니다. 결론적으로, SAMCO RIE-1C는 강력한 에처 및 애셔이며, 특히 화학 실험실, 연구 센터, 대학 및 첨단 산업에 사용하기에 적합합니다. 고출력 RF 발전기, 디지털 컨트롤러, 이중 레이어 구조로, 지속적으로 고품질 에치 (etched) 및 애쉬 (ashed) 재료를 제공합니다. 또한 RIE-1C 에는 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 애플리케이션이 가능한 다양한 액세서리가 제공됩니다.
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