판매용 중고 PVA TEPLA / TECHNICS Plasma Excitor 3000-1 #62131

PVA TEPLA/TECHNICS Plasma Excitor 3000-1은 반도체 장치의 제작에 사용하기위한 고성능 에처 및 나노 재료입니다. 최첨단 유전체 장벽 방전 (DBD) 소스를 특징으로하여 깨끗하고 효율적이며 저렴한 에칭 프로세스를 제공합니다. TECHNICS Plasma Excitor 3000-1은 병렬 판 플라즈마 소스를 사용하여 고출력, 넓은 기판 영역에 균일 한 에칭, 작은 구조물의 깨끗하고 정밀한 에칭을 생성합니다. 또한 고급 원격 제어 장비 (Advanced Remote Control Equipment) 가 장착되어 있어 에칭 및 증착 프로세스를 정교하게 패턴화할 수 있습니다. PVA TEPLA Plasma Excitor 3000-1의 플라즈마 소스는 나노 스케일 재료를 에치하고 예치하는 정확하고 효율적인 방법을 제공합니다. 리모콘 시스템에는 에칭 (etching) 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있는 카메라가 포함되어 있어 특정 애플리케이션의 에칭 (etching) 매개변수를 세밀하게 조정할 수 있습니다. 복잡한 포토 마스크, 미세 유체 장치 및 기타 섬세한 반도체 제품을 생산하는 데 이상적입니다. Plasma Excitor 3000-1은 최대 200nm/min의 에치 속도를 달성 할 수 있으며 실리콘, 화합물 반도체, 금속 등 다양한 재료를 가져올 수 있습니다. PVA TEPLA/TECHNICS Plasma Excitor 3000-1은 에칭 기능 외에도 고급 애싱 장치 (ashing unit) 를 갖추고 있으며, 사용자가 나노 재료를 기판에 빠르고 정확하게 배치 할 수 있습니다. "애싱 '기계 는" 아르곤' 과 같은 비활성 "가스 '" 패킷' 을 몰아내어 정확 하고 균일 한 "애싱 '과정 을 만들어 낸다. 이 과정 은 매우 정확 하고 효율적 이므로, "나노물질 '을 기판 에 신속 하게 증착 시키는 데 이상적 이다. 결론적으로, TECHNICS Plasma Excitor 3000-1은 최첨단 DBD 소스와 고급 원격 제어 도구를 갖춘 고급 에처 (etcher) 및 나노 재료 (nanomaterials asher) 입니다. 실리콘, 화합물 반도체, 금속 등 다양한 물질을 에칭할 수 있으며, 최대 200 nm/min의 에치 속도를 달성 할 수 있습니다. 또한 기판에 나노 물질 (nanomaterial) 을 빠르고 정확하게 증착하기위한 고급 애싱 에셋 (ashing asset) 이 장착되어 있습니다.