판매용 중고 PVA TEPLA / TECHNICS GigaEtch 100e #123201

PVA TEPLA/TECHNICS GgaEtch 100e는 광범위한 재료에 대한 고정밀 플라즈마 에칭 및 애싱을 제공하도록 설계된 고급 에처/애셔입니다. 금속, 세라믹, 고무, 플라스틱 등 다양한 재료에서 복잡한 고정밀 마이크로 에칭 패턴을 만드는 데 이상적인 방법입니다. TECHNICS GgaEtch 100e는 혁신적인 플라즈마 기술을 활용하여 최고의 정확도로 에치 및 애싱 프로세스를 만듭니다. PVA TEPLA GgaEtch 100e에는 에칭 및 애싱 응용 프로그램을위한 고급 플라즈마 소스가 장착되어 있습니다. 여기에는 ICP (Inductively Coupled Plasma) 소스와 광선 방전 소스가 포함됩니다. 둘 다 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스 동안 최대의 제어 및 정확성을 제공하는 무선 주파수 (RF) 소스에 의해 구동됩니다. ICP 소스 (ICP source) 를 사용하면 다양한 압력, 온도, 가스 흐름 설정이 가능하여 가장 어려운 재료를 에칭할 수 있습니다. 광선 방전 소스 (glow discharge source) 는 다른 에칭 장치보다 높은 수준의 제어로 정확한 에칭을 허용합니다. GgaEtch 100e에는 정확성과 안전성을 위해 강력한 모니터링 장비가 장착되어 있습니다. 이 시스템을 사용하면 이온 종 농도 (ion species concentration), 에치 속도 (etch rate), 에치 깊이 (depth of etch) 와 같은 에치 및 애싱 매개변수를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 안전은 여전히 최우선 과제이며, PVA TEPLA/TECHNICS GgaEtch 100e에는 정전 또는 기타 비상 사태가 발생할 경우 장치를 자동으로 종료하는 내장 인터 록 (interlock) 장치가 장착되어 있습니다. TECHNICS Giga Etch 100e etcher/asher는 사용자가 작업할 수 있는 다양한 도구와 기능을 제공합니다. 여기에는 다양한 크기의 에치 (etch) 및 애싱 마스크 (ashing mask) 및 스텐실 (stencil) 과 사전 설정된 제어 알고리즘이 포함 된 고급 멀티 슬라이스 에칭 장비가 포함됩니다. 또한, Giga Etchal 100e에는 다양한 소프트웨어 패키지가 포함되어 있으며, 이를 통해 사용자는 프로세스를 처음부터 끝까지 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 또한 소프트웨어 패키지 (Software package) 를 사용하면 사용자 정의 마스크를 생성하여 전례없는 정확도로 복잡한 모양을 세부적으로 가져올 수 있습니다. 전반적으로 PVA TEPLA GgaEtch 100e는 강력하고 다양한 에칭 및 애싱 머신으로, 정확성과 안전성이 높은 정밀 에칭을 제공하도록 설계되었습니다. 다양한 프로세스/툴과 결합된 고급 (advanced) 기능을 통해 안정적이고 효과적인 에칭 툴 (etching tool) 을 원하는 모든 사용자에게 적합한 옵션을 선택할 수 있습니다.